ULPMAT

Boro

Chemical Name:
Boro
Formula:
B
Product No.:
0500
CAS No.:
7440-42-8
EINECS No.:
231-151-2
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
0500ST001 B 99.5% Ø 101.6mm x 3.175mm Inquire
0500ST002 B 99.9% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
0500ST003 B 99.9% 50 mm x 50 mm x 3 mm th. Inquire
Product ID
0500ST001
Formula
B
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6mm x 3.175mm
Product ID
0500ST002
Formula
B
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm
Product ID
0500ST003
Formula
B
Purity
99.9%
Dimension
50 mm x 50 mm x 3 mm th.

Il boro i target di sputtering al boro sono realizzati in boro di elevata purezza, di solito di colore grigio scuro o nero, con una lucentezza metallica e una struttura cristallina atomica. Grazie all’elevata durezza, all’alto punto di fusione e all’eccellente stabilità chimica, i bersagli di boro consentono la deposizione di film sottili densi, uniformi e ben aderenti. Sono ampiamente utilizzati nelle applicazioni di semiconduttori, optoelettronica, rivestimenti ottici e rivestimenti duri, compresa la preparazione di film sottili di boro, film sottili di boruro (come B₄C, TiB₂, MoB₂) e film di semiconduttori drogati con boro. I target di boro possono essere prodotti in forme circolari, rettangolari o altre forme personalizzate per soddisfare i diversi requisiti di processo

Caratteristiche e vantaggi principali

Elevata purezza: Standard ≥99,5%, purezza ultraelevata fino a ≥99,9% Eccellenti proprietà fisiche: Elevato punto di fusione (~2076 °C), elevata durezza (Mohs ~9,3) Forte stabilità chimica: Resistente agli acidi e agli alcali a temperatura ambiente Qualità superiore del film: Produce film densi e uniformi con forte adesione Specifiche personalizzabili: Dimensioni, forma e purezza disponibili su richiesta

Applicazioni del target di sputtering al boro

Industria dei semiconduttori: i target di sputtering al boro sono utilizzati per i film di silicio drogato con boro, per la produzione di semiconduttori di tipo PRivestimenti ottici: Rivestimenti ottici: film antiusura, ad alta temperatura e antiriflessoRivestimenti duri: Produzione di rivestimenti come il carburo di boro (B₄C) e il diboruro di titanio (TiB₂)Industria nucleare: i target di sputtering al boro sono utilizzati per film sottili con elevata capacità di assorbimento dei neutroni

Manipolazione e stoccaggio

Durante la manipolazione, utilizzare guanti puliti o protezioni per le dita per evitare la contaminazione. Conservare in una confezione sigillata, a prova di umidità, in un ambiente fresco, asciutto e pulito. Tenere lontano da agenti ossidanti forti, alogeni e fonti di shock meccanico.

Aspetto: Solido da grigio scuro a nero

Struttura cristallina: Cristallo atomico, durezza Mohs 9,3

Densità: ~2,34 g/cm³ (può variare a seconda del metodo di sinterizzazione)

Punto di fusione: 2076 °C

Stabilità chimica: Non reagisce con ossigeno o acidi diluiti a temperatura ambiente; reagisce vigorosamente con alogeni e agenti ossidanti forti.

Imballaggio interno: Sigillato sotto vuoto in sacchetti di polietilene antistatici

Imballaggio esterno: Cartone antiurto o cassa di legno con rivestimento in gommapiuma

Fornitura standard: 1 pezzo/scatola o secondo i requisiti del cliente

Contattaci

Se hai bisogno di un servizio, contattaci

Ulteriori informazioni

altri prodotti

CONTACT US

CONTATTI

Thermal Spray

Il nostro sito web è stato completamente aggiornato