| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 260800ST001 | Fe2O3 | 99.9% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 260800ST002 | Fe2O3 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 260800ST003 | Fe2O3 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 260800ST004 | Fe2O3 | 99.9% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 260800ST005 | Fe2O3 | 99.9% | Ø 101.6 mm x 1.58 mm | Inquire |
| 260800ST006 | Fe2O3 | 99.9% | Ø 203.2 mm x 2 mm | Inquire |
| 260800ST007 | Fe2O3 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
I target di sputtering
in ossido di ferro
sono materiali di origine solida realizzati in ceramica di ossido di ferro ad alta purezza, utilizzati principalmente nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Essi depositano film sottili di ossido di ferro con specifiche funzioni optoelettroniche, magnetiche o catalitiche su substrati utilizzando metodi quali lo sputtering magnetronico. Questo materiale è ampiamente utilizzato nei rivestimenti ottici
, nei dispositivi magnetici, nei sensori e nella ricerca all’avanguardia sulla fotoelettrocatalisi.
I nostri target Fe2O3 possono essere personalizzati in varie forme e dimensioni, tra cui circolari e rettangolari, per soddisfare le vostre esigenze, garantendo una microstruttura densa e prestazioni stabili. Contattateci
per un elenco dettagliato delle specifiche.
Purezza elevatissima
Forme cristalline selezionabili
Alta densità e bassa porosità
Specifiche flessibili e personalizzabili
Film sottili e rivestimenti
ottici
: utilizzati per la preparazione di film antiriflesso, filtri di interferenza e vari rivestimenti ottici. L’indice di rifrazione, la durezza e altre proprietà del film sottile sono strettamente correlate alla purezza del materiale del target.
Dispositivi magnetici funzionali: fungono da materiale target principale per la preparazione di film sottili magnetici chiave in supporti di registrazione magnetica, sensori magnetici e dispositivi magnetoelettronici. Sensori di gas e chimici: utilizzati per il deposito di film sottili sensibili, la loro purezza e microstruttura influenzano direttamente la sensibilità, la selettività e la velocità di risposta del sensore.
Ricerca nel campo del fotovoltaico e della catalisi: utilizzati nella conversione dell’energia solare e nella catalisi come materiali per la preparazione di fotoanodi o film sottili catalitici. L’elevata purezza e la buona cristallinità contribuiscono a migliorare l’efficienza di conversione e la stabilità.
D1: Quali sono le differenze tra i materiali target α-Fe₂O₃ e γ-Fe₂O₃? Come scegliere?
R1: I due materiali differiscono per struttura cristallina e proprietà fisiche. α-Fe₂O₃ (ematite) è il più stabile dal punto di vista termodinamico e il più utilizzato; γ-Fe₂O₃ (magnesite) ha un magnetismo più forte. La scelta dipende dagli obiettivi di prestazione del film sottile: se si desidera un’elevata stabilità chimica e un band gap ottico specifico, è possibile selezionare la fase α; se è necessario un film sottile fortemente magnetico, la fase γ è più adatta. Il nostro team tecnico può assistervi nella scelta in base all’applicazione finale.
D2: Perché il materiale target deve essere incollato a una piastra di supporto?
R2: L’incollaggio con una piastra di supporto in metallo ad alta conducibilità termica è fondamentale. Dissipa rapidamente l’enorme calore generato sulla superficie del target durante la polverizzazione, prevenendo la rottura del target o il degrado delle prestazioni dovuto al surriscaldamento localizzato, garantendo così una polverizzazione stabile e prolungando la durata del target.
D3: Come devono essere conservati i target di polverizzazione di ossido di ferro (III)?
A3: Devono essere conservati in un ambiente asciutto e ben ventilato, distesi in piano per evitare urti, ossidazione, contaminazione e danni fisici.
Q4: I prodotti sono personalizzati?
A4: Possiamo personalizzare vari prodotti in base alle esigenze dei clienti.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Ci concentriamo sulla ricerca, lo sviluppo e la produzione di target di sputtering ceramici ad alte prestazioni, comprendendo profondamente l’influenza decisiva della purezza del materiale, della forma cristallina e della microstruttura sulle prestazioni finali del film sottile. Dalla sintesi di polveri ad alta purezza alla sinterizzazione di precisione, implementiamo un rigoroso controllo di qualità durante l’intero processo per garantire che ogni materiale target abbia una qualità eccellente.
Formula molecolare: Fe₂O₃
Peso molecolare: 159,69 g/mol
Aspetto: Solido denso, da marrone rossiccio a rosso scuro
Densità: Circa 5,24-5,26 g/cm³
Punto di fusione: Circa 1565 °C (si decompone)
Punto di ebollizione: Circa 3414 °C (si decompone)
Struttura cristallina: Solitamente trigonale (α-Fe₂O₃, struttura ematite).
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
