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Lega di ferro e nichel

Chemical Name:
Lega di ferro e nichel
Formula:
FeNi
Product No.:
262800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
262800ST001 FeNi 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
262800ST001
Formula
FeNi
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm

 Targets per sputtering in lega di ferro-nichel Panoramica

I targets per sputtering in lega
di ferro-nichel
sono targets funzionali basati su un sistema in lega di ferro-nichel, utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili magnetici, materiali elettronici e rivestimenti funzionali correlati.

Offriamo targets per sputtering in lega di ferro-nichel in vari rapporti di composizione e dimensioni per soddisfare le diverse esigenze dei processi di deposizione. Contattateci
per confermare i parametri tecnici.

Caratteristiche principali del prodotto

Rapporto di composizione controllabile
Proprietà magnetiche stabili
Struttura uniforme
Compatibile con più processi di deposizione PVD
Dimensioni personalizzate e rapporti di lega supportati
Fornitura stabile

Applicazioni dei target di sputtering in lega di ferro-nichel

Materiali per film sottili magnetici: le leghe di ferro-nichel sono comunemente utilizzate per preparare film sottili magnetici morbidi o funzionali, adatti per la ricerca e la produzione di sensori, registrazioni magnetiche e dispositivi correlati.

Materiali elettronici e semiconduttori
: nei componenti elettronici e nei processi dei semiconduttori, questi target in lega possono essere utilizzati per la deposizione di strati metallici o funzionali, migliorando l’uniformità delle prestazioni dei film sottili.

Rivestimenti funzionali e ingegneria delle superfici: la deposizione di film sottili in lega di ferro-nichel tramite sputtering può migliorare la struttura superficiale del materiale o ottenere proprietà funzionali specifiche.

Ricerca scientifica e applicazioni di laboratorio: adatto alla ricerca fondamentale nelle università e negli istituti di ricerca su film sottili in lega, meccanismi di crescita e ottimizzazione dei processi.

Domande frequenti

D1: Lo sputtering DC o RF è adatto per i target di sputtering in lega di ferro-nichel?
R1: Lo sputtering DC o RF può essere selezionato in base alla composizione specifica della lega e alle condizioni dell’attrezzatura.

D2: È possibile regolare il rapporto ferro/nichel nella lega?
R2: Sì, è possibile personalizzare la produzione con diversi rapporti ferro/nichel in base ai requisiti dell’applicazione.

D3: Il bersaglio di sputtering in lega di ferro-nichel è stabile durante lo sputtering a lungo termine?
R3: Con parametri di processo ragionevoli, il processo di sputtering del bersaglio è stabile, il che aiuta a ottenere film sottili uniformi.

D4: Il bersaglio di sputtering in lega di ferro-nichel è più adatto alla ricerca scientifica o alle applicazioni industriali?
R4: Può soddisfare le esigenze degli esperimenti di ricerca scientifica ed è adatto anche per alcune applicazioni su scala pilota e industriali.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Da tempo ci concentriamo sulla ricerca e la fornitura di target di sputtering in metallo e lega, ponendo l’accento sul controllo della composizione, l’uniformità di lavorazione e l’efficienza della risposta tecnica. Siamo in grado di fornire un supporto affidabile e sostenibile per i materiali magnetici e i progetti di film sottili elettronici.

Formula molecolare: FeNi
Aspetto: Grigio-argento
Densità: 8,7 g/cm³
Struttura cristallina: Cubica a facce centrate (FCC)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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