I targets per sputtering in lega
di ferro-nichel
sono targets funzionali basati su un sistema in lega di ferro-nichel, utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili magnetici, materiali elettronici e rivestimenti funzionali correlati.
Offriamo targets per sputtering in lega di ferro-nichel in vari rapporti di composizione e dimensioni per soddisfare le diverse esigenze dei processi di deposizione. Contattateci
per confermare i parametri tecnici.
Rapporto di composizione controllabile
Proprietà magnetiche stabili
Struttura uniforme
Compatibile con più processi di deposizione PVD
Dimensioni personalizzate e rapporti di lega supportati
Fornitura stabile
Materiali per film sottili magnetici: le leghe di ferro-nichel sono comunemente utilizzate per preparare film sottili magnetici morbidi o funzionali, adatti per la ricerca e la produzione di sensori, registrazioni magnetiche e dispositivi correlati.
Materiali elettronici e semiconduttori
: nei componenti elettronici e nei processi dei semiconduttori, questi target in lega possono essere utilizzati per la deposizione di strati metallici o funzionali, migliorando l’uniformità delle prestazioni dei film sottili.
Rivestimenti funzionali e ingegneria delle superfici: la deposizione di film sottili in lega di ferro-nichel tramite sputtering può migliorare la struttura superficiale del materiale o ottenere proprietà funzionali specifiche.
Ricerca scientifica e applicazioni di laboratorio: adatto alla ricerca fondamentale nelle università e negli istituti di ricerca su film sottili in lega, meccanismi di crescita e ottimizzazione dei processi.
D1: Lo sputtering DC o RF è adatto per i target di sputtering in lega di ferro-nichel?
R1: Lo sputtering DC o RF può essere selezionato in base alla composizione specifica della lega e alle condizioni dell’attrezzatura.
D2: È possibile regolare il rapporto ferro/nichel nella lega?
R2: Sì, è possibile personalizzare la produzione con diversi rapporti ferro/nichel in base ai requisiti dell’applicazione.
D3: Il bersaglio di sputtering in lega di ferro-nichel è stabile durante lo sputtering a lungo termine?
R3: Con parametri di processo ragionevoli, il processo di sputtering del bersaglio è stabile, il che aiuta a ottenere film sottili uniformi.
D4: Il bersaglio di sputtering in lega di ferro-nichel è più adatto alla ricerca scientifica o alle applicazioni industriali?
R4: Può soddisfare le esigenze degli esperimenti di ricerca scientifica ed è adatto anche per alcune applicazioni su scala pilota e industriali.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Da tempo ci concentriamo sulla ricerca e la fornitura di target di sputtering in metallo e lega, ponendo l’accento sul controllo della composizione, l’uniformità di lavorazione e l’efficienza della risposta tecnica. Siamo in grado di fornire un supporto affidabile e sostenibile per i materiali magnetici e i progetti di film sottili elettronici.
Formula molecolare: FeNi
Aspetto: Grigio-argento
Densità: 8,7 g/cm³
Struttura cristallina: Cubica a facce centrate (FCC)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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