I target di sputtering
in ossido di manganese e ferro
sono target ceramici ad alta densità realizzati in un ossido composito (ossido di ferro e manganese spinello) utilizzati nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per formare film sottili funzionali. Questi target sono ampiamente utilizzati nella produzione di film sottili magnetici, dispositivi elettronici e rivestimenti funzionali ottici
, fornendo una base stabile per la formazione di film per la preparazione di materiali avanzati.
Offriamo target di sputtering MnFe2O4 in varie purezze e dimensioni. Contattateci
per dettagli tecnici e preventivi personalizzati.
Target di ossido ad alta purezza
Struttura spinello stabile
Densità eccellente
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering magnetron Dimensioni e forme
personalizzate
supportate
Buona consistenza di formazione del film
Fornitura stabile in lotti
Rigoroso sistema di controllo qualità.
Deposizione di film sottili magnetici: utilizzando target MnFe2O4 per depositare film sottili magnetici in apparecchiature di sputtering magnetron, può essere utilizzato nella produzione di componenti a film sottile magnetico come memorie magnetiche e sensori magnetici.
Fabbricazione di dispositivi elettronici e semiconduttori
: questo bersaglio di sputtering è adatto per la formazione di film sottili funzionali di alta qualità su wafer di silicio, vetro o altri substrati e può essere utilizzato nella produzione di dispositivi elettronici, circuiti integrati e componenti microelettronici.
Film sottili di materiali funzionali optoelettronici: utilizzati per la formazione di film nella produzione di dispositivi optoelettronici, come strati magnetici trasparenti o materiali a film sottile con proprietà ottiche specifiche, fornendo materiali di base per display, comunicazioni ottiche, ecc.
Ricerca e sviluppo di film sottili: nei laboratori di ricerca, i target di sputtering MnFe2O4 sono utilizzati per sviluppare nuovi materiali magnetici o funzionali a film sottile e sono una fonte indispensabile per la ricerca sui film sottili nella scienza dei materiali.
D1: Che cos’è un bersaglio di sputtering di ossido di manganese e ferro?
R1: Un bersaglio di sputtering MnFe2O4 è un bersaglio ceramico composito a struttura spinello composto da ossidi di manganese e ferro, utilizzato nei processi di deposizione di film sottili come lo sputtering magnetronico.
D2: Per quali metodi di sputtering è adatto questo bersaglio?
A2: Può essere utilizzato per la polverizzazione magnetronica (compresi RF, DC, ecc.), a seconda delle attrezzature e dei requisiti di processo. La struttura densa del target aiuta a stabilizzare la formazione del film.
Q3: Perché è necessario un target di polverizzazione ad alta densità?
A3: L’alta densità riduce la porosità e le crepe, diminuendo il rischio di rottura del target durante la polverizzazione e migliorando la consistenza e la qualità del film.
Q4: In che modo la purezza della composizione del target influisce sulle prestazioni del film?
A4: I target con maggiore purezza aiutano a ridurre le impurità. Un contenuto di impurità inferiore nel film migliora le proprietà elettriche, magnetiche e ottiche, nonché la stabilità del processo.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Disponiamo di un sistema avanzato di produzione e collaudo dei target per sputtering. Dalla selezione delle materie prime e dalla preparazione delle polveri allo stampaggio, alla sinterizzazione e alla post-lavorazione, applichiamo un rigoroso controllo di processo per garantire l’elevata purezza e uniformità dei target MnFe₂O₄. Supportiamo anche specifiche personalizzate e forniamo consulenza tecnica professionale e un servizio post-vendita
completo,
offrendo ai clienti una base materiale affidabile per i processi di preparazione dei film sottili.
Formula molecolare: MnFe₂O₄
Peso molecolare: 228,81 g/mol
Aspetto: Nero
Densità: 5.0 g/cm³
Punto di fusione: 1590 °C
Struttura cristallina: Cubica (tipo Spinnel)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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