Titanato di calcio (ossido di calcio e titanio)

Panoramica sui target di sputtering in titanato di calcio

I target di sputtering
in titanato di calcio
sono materiali ceramici funzionali caratterizzati da una struttura cristallina perovskite standard, progettati specificamente per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Attraverso lo sputtering, formano film di titanato di calcio uniformi e di alta qualità sui substrati. Questi film svolgono un ruolo fondamentale nei componenti elettronici avanzati e nelle applicazioni di rivestimento ottico grazie alle loro eccezionali proprietà dielettriche, ferroelettriche e ottiche
.

Produciamo e forniamo in modo professionale target di sputtering in ceramica di titanato di calcio di alta qualità in varie purezze, dimensioni e orientamenti cristallini. Sono disponibili servizi di incollaggio
di piastre di supporto personalizzate in base alle vostre esigenze. Contattateci
per soluzioni personalizzate.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza di fase
Densità eccezionale
Orientamento selezionabile
Elevata stabilità chimica
Qualità superiore del film

Applicazioni dei target di sputtering in titanato di calcio

Condensatori e dispositivi di memoria ad alte prestazioni:
utilizzati per il deposito di film ad alta costante dielettrica (high-k) come strati dielettrici centrali in DRAM o condensatori integrati di nuova generazione, fungono da materiale chiave per ottenere la miniaturizzazione dei dispositivi e prestazioni elevate.

Rivestimenti ottici e dispositivi fotonici:
sfruttando il suo elevato indice di rifrazione e la trasparenza nello spettro dall’ultravioletto all’infrarosso, consente la fabbricazione di complessi filtri di interferenza ottica, rivestimenti antiriflesso e strati di guida d’onda in circuiti fotonici integrati.

Optoelettronica e sensori:
in quanto materiali ferroelettrici e multiferroici tipici, i loro film fungono da strati funzionali in memorie non volatili, sensori piezoelettrici, fotorilevatori e nuove celle solari, offrendo una risposta rapida e un’elevata sensibilità.

Ricerca fondamentale sui superconduttori e sui materiali quantistici:
in quanto materiali di substrato fondamentali per la crescita epitassiale di film superconduttori ad alta temperatura o altri materiali quantistici ossidici complessi, costituiscono piattaforme essenziali per la ricerca all’avanguardia nel campo della fisica della materia condensata e della scienza dei materiali.

Domande frequenti

D1: Quali precauzioni speciali devono essere prese per la conservazione e l’uso dei target di titanato di calcio?
A1: Sebbene i target ceramici siano più stabili delle polveri, si consiglia comunque di conservarli sigillati in un ambiente asciutto. Prima dell’uso, per ottenere prestazioni ottimali del film, è generalmente consigliabile eseguire una pulizia pre-sputtering della superficie del target per rimuovere eventuali ossidi o contaminanti superficiali.

D2: È necessario utilizzare la modalità RF o DC per lo sputtering con questo target?
A2: Il titanato di calcio è un tipico materiale dielettrico che richiede la modalità di sputtering RF. La modalità DC non è in grado di sostenere una scarica luminescente stabile ed è inefficace per lo sputtering di tali target isolanti.

Q3: Come è possibile controllare la qualità cristallina del film depositato?
A3: La qualità cristallina del film è influenzata principalmente dalla temperatura del substrato, dalla pressione di sputtering e dalla potenza. In genere, un riscaldamento adeguato del substrato facilita la formazione di film ben cristallizzati. La selezione di un target con un orientamento cristallino specifico favorisce anche la crescita orientata del film.

D4: Qual è la costante dielettrica approssimativa dei film di titanato di calcio? Come viene misurata?
R4: La costante dielettrica di questi film varia in modo significativo a seconda delle condizioni di processo, tipicamente compresa tra 150 e 300. Può essere misurata e calcolata depositando il film su un wafer di silicio, fabbricando una struttura di condensatori metallo-isolante-metallo e utilizzando un analizzatore di impedenza.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di bersagli di sputtering ceramici ad alte prestazioni, con una profonda esperienza nella relazione tra la preparazione precisa dei materiali di ossido di perovskite e i processi a film sottile. Dalla selezione di materie prime di elevata purezza e tecniche avanzate di formatura/sinterizzazione alla lavorazione di precisione finale e ai test non distruttivi, implementiamo controlli rigorosi in ogni fase per garantire che i bersagli presentino una microstruttura eccezionale e prestazioni costanti.