Ortosilicato di magnesio

Target di sputtering in ortosilicato di magnesio Panoramica

I target di sputtering
in ortosilicato di magnesio
sono target ceramici omogenei ad alta densità con eccellente stabilità termica e resistenza all’usura. Sono ampiamente utilizzati nella produzione di film sottili ottici, rivestimenti funzionali e dispositivi elettronici ad alte prestazioni.

Offriamo target di sputtering Mg2SiO4 in varie dimensioni, forme e controlli di densità per soddisfare le esigenze delle applicazioni industriali e di ricerca. Contattateci
per un preventivo.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta densità, eccellente uniformità di sputtering
Basso coefficiente di espansione termica, forte resistenza al calore
Elevata stabilità chimica, non si ossida facilmente
Dimensione delle particelle e purezza personalizzabili
Eccellente levigatezza superficiale, adatta per la deposizione di film sottili di precisione
Supporta varie dimensioni e forme di target

Applicazioni dei target di sputtering in ortosilicato di magnesio

Deposizione di film sottili
ottici
: può essere utilizzato per preparare film sottili ottici di alta qualità, garantendo uno spessore uniforme del film per soddisfare i requisiti dei dispositivi ottici di precisione.
Materiali di rivestimento funzionali: utilizzati in rivestimenti resistenti all’usura, alla corrosione e isolanti per migliorare l’adesione del film e la stabilità a lungo termine.
Produzione di dispositivi elettronici: adatto per la deposizione di componenti microelettronici e substrati ceramici, garantendo l’uniformità e l’affidabilità del film.
Ricerca scientifica e applicazioni su scala pilota: supporta la verifica del processo di sputtering in laboratorio e su scala pilota, facilitando la ricerca e l’ottimizzazione di nuovi film sottili di materiali.

Domande frequenti

D1: Target di sputtering in ortosilicato di magnesio – Per quali apparecchiature di sputtering è adatto?
R1: Adatto per apparecchiature di sputtering DC, RF e magnetron, in grado di soddisfare diversi requisiti di processo.

D2: La densità del target influisce sull’uniformità del film?
A2: Una densità più elevata comporta una minore perdita di particelle durante la sputtering e una migliore uniformità del film.

Q3: Supportate dimensioni e forme personalizzate?
A3: Supporta vari target rotondi, quadrati e di forma irregolare, che possono essere lavorati secondo i disegni del cliente.

Q4: La superficie del target richiede un trattamento speciale?
A4: I target sono pre-piallati in superficie e possono essere utilizzati direttamente nei processi di sputtering.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di controllo delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca, nello sviluppo e nella produzione di bersagli di sputtering ceramici ad alte prestazioni, fornendo qualità stabile e servizi personalizzati. Siamo in grado di rispondere rapidamente alle richieste dei clienti, contribuendo all’efficiente implementazione della ricerca scientifica e della produzione industriale.