Magnesio Bismuto

Target di sputtering in magnesio-bismuto Panoramica

I target di sputtering
in magnesio-bismuto
sono target funzionali composti principalmente da composti intermetallici di magnesio-bismuto, adatti per stabilizzare i processi di deposizione di film sottili. Questi target sono utilizzati principalmente nella ricerca su film sottili funzionali, film termoelettrici e materiali elettronici.

Offriamo target di sputtering in composti di magnesio-bismuto in varie dimensioni, spessori e con composizione controllata, consentendo una rapida selezione e quotazione.

Caratteristiche principali del prodotto

Composizione stabile del composto intermetallico
Elevata densità del bersaglio, processo di sputtering regolare
Buona conduttività elettrica, elevata efficienza di deposizione
Elevata planarità superficiale, buona consistenza del film
Specifiche flessibili, elaborazione personalizzata supportata
Adatto per la ricerca e la produzione in piccoli lotti

Applicazioni dei bersagli di sputtering in magnesio-bismuto

Deposizione di film sottili funzionali: può essere utilizzato per preparare film sottili funzionali, soddisfacendo applicazioni con elevati requisiti di uniformità compositiva e qualità del film.
Ricerca sui film sottili termoelettrici: nel campo dei materiali termoelettrici, questo target è adatto alla deposizione di film correlati, aiutando nell’ottimizzazione dei parametri sperimentali e nella ricerca sulle prestazioni.
Sviluppo di materiali e dispositivi elettronici: può essere utilizzato per la preparazione di film sottili per dispositivi elettronici e strutture correlate, migliorando la stabilità e la ripetibilità del film.
Ricerca scientifica e convalida dei processi: adatto per università e istituti di ricerca per condurre la convalida dei processi e esperimenti su scala pilota su film sottili di nuovi materiali.

Domande frequenti

D1: Quale tipo di apparecchiatura di sputtering è adatta per i target di sputtering in magnesio e bismuto?
R1: Adattabile a sistemi di sputtering DC o RF, adatto a varie apparecchiature sperimentali e industriali.

D2: La densità del target influisce sulla qualità del film?
A2: Una densità più elevata si traduce in un processo di sputtering più stabile, contribuendo a ottenere un film uniforme e denso.

Q3: Le dimensioni dei target possono essere personalizzate in base ai requisiti delle apparecchiature?
A3: Sì, supportiamo la lavorazione personalizzata di dimensioni rotonde, quadrate e altre dimensioni speciali.

Q4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei target?
A4: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto e sigillato per evitare che la contaminazione della superficie ne comprometta le prestazioni.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella preparazione e nel controllo qualità di target di sputtering di composti intermetallici, fornendo prodotti stabili e affidabili e un rapido supporto tecnico per aiutare i clienti a soddisfare in modo efficiente le loro esigenze di preparazione di film sottili.