Fluoruro di magnesio

Panoramica sui target di sputtering al fluoruro di magnesio

I target di sputtering
al fluoruro di magnesio
sono target ceramici al fluoruro ad alta densità con eccellente stabilità termica e inerzia chimica. Sono adatti per processi di deposizione mediante sputtering magnetronico o RF di film sottili ottici, rivestimenti funzionali e materiali per film sottili ad alta purezza.

Offriamo target di sputtering in fluoruro di magnesio in varie dimensioni, spessori e controlli di densità e possiamo personalizzare le soluzioni di incollaggio del backplane in base ai requisiti delle apparecchiature. Contattateci
direttamente per i parametri e i preventivi.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta densità, processo di sputtering stabile
Buona stabilità termica, nessuna deformazione dopo deposizione a lungo termine
Superficie liscia, elevata uniformità del film
Forte inerzia chimica, adattabile a vari processi
Può essere incollato su backplane in rame/alluminio, elevata efficienza di dissipazione del calore
Supporta la personalizzazione
di varie dimensioni e specifiche

Applicazioni dei target di sputtering al fluoruro di magnesio

Preparazione di film sottili
ottici
: forma film densi e trasparenti nella sputtering RF o magnetron, soddisfacendo i requisiti dei dispositivi ottici per lo spessore uniforme del film e la ripetibilità.
Deposizione di rivestimenti funzionali: adatto alla preparazione di rivestimenti ad alta stabilità, migliorando la resistenza all’usura, la resistenza al calore e la stabilità chimica dei film sottili.
Ricerca su materiali per film sottili ad alta purezza: garantisce la stabilità della composizione e della struttura del film nella ricerca scientifica o nello sviluppo industriale di film sottili.
Convalida del processo e abbinamento delle attrezzature: adatto per la convalida del processo di sputtering in fase di laboratorio e pilota, facilitando la regolazione dei parametri e la valutazione dei materiali.

Domande

frequenti
D1: A quale tipo di attrezzatura di sputtering è adatto il target al fluoruro di magnesio?
R1: Può essere utilizzato nello sputtering RF, nello sputtering magnetron e in altre attrezzature, adatto alla ricerca scientifica e alla deposizione industriale di film sottili.

D2: La densità del target influisce sulla qualità del film?
A2: I target ad alta densità riducono il rischio di distacco delle particelle e migliorano l’uniformità e la consistenza del film.

Q3: Le dimensioni del target e l’incollaggio
della piastra posteriore possono essere personalizzati in base alle specifiche dell’attrezzatura?
A3: Sì, supportiamo target rotondi, quadrati e di dimensioni speciali e possiamo fornire soluzioni di incollaggio con piastra posteriore in rame o alluminio per migliorare la dissipazione del calore e la durata.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella preparazione e nella tecnologia di incollaggio di target di sputtering al fluoruro, fornendo prodotti stabili e affidabili e un rapido supporto tecnico per aiutare i clienti a completare in modo efficiente la deposizione di film sottili, la convalida dei processi e l’abbinamento delle apparecchiature.