I target di sputtering
in silicato di litio
sono materiali ceramici avanzati utilizzati per la deposizione di film sottili nello sviluppo di batterie allo stato solido, rivestimenti protettivi, film ottici e altre applicazioni ceramiche funzionali. Sono noti per il loro elevato contenuto di litio, la buona conduttività ionica e l’eccellente stabilità termica.
I nostri target di sputtering in silicato di litio sono fabbricati con alta densità, microstruttura uniforme e purezza ≥99,9%. Disponibili in varie dimensioni e forme, inclusi i tipi circolari e rettangolari, possono anche essere personalizzati per soddisfare le vostre esigenze specifiche.
Purezza: ≥99,9% (purezza superiore personalizzabile su richiesta)
Alta densità: per una deposizione efficiente e uniforme del film
Bassi livelli di impurità: garantisce una contaminazione minima nei film sottili
Personalizzabile: dimensioni, forma e configurazione della piastra di supporto
Batterie al litio allo stato solido: strati elettrolitici a film sottile o ingegneria dell’interfaccia
Rivestimenti protettivi: per componenti esposti al litio o ad ambienti corrosivi
Optoelettronica: strati funzionali o tampone in dispositivi elettroceramici
Catalisi: supporti catalitici a film sottile nelle reazioni legate al litio
D1: Quali sono le principali applicazioni a film sottile dei target di sputtering in silicato di litio?
R1: Questi target di sputtering sono utilizzati principalmente per la preparazione di film sottili funzionali al silicato di litio, comunemente utilizzati nella ricerca sugli elettroliti allo stato solido, nei film sottili conduttori di ioni e nei rivestimenti ceramici funzionali.
D2: Quali proprietà materiali possiede il metasilicato di litio nella preparazione di film sottili?
R2: Questo materiale presenta una buona stabilità chimica e consistenza strutturale, che è vantaggiosa per la formazione di film sottili funzionali uniformi e continui durante lo sputtering.
Q3: Quali condizioni di processo di deposizione sono adatte per questo bersaglio di sputtering?
A3: I bersagli di sputtering in metasilicato di litio sono adatti per processi PVD come lo sputtering RF, soddisfacendo i requisiti di qualità dei film sottili della ricerca e della produzione su scala pilota.
Q4: Quali precauzioni devono essere prese quando si utilizzano bersagli di sputtering in metasilicato di litio?
A4: Si raccomanda di installare e conservare il target in un ambiente asciutto, evitando umidità o contaminazione, per garantire la stabilità del processo di sputtering e la consistenza delle prestazioni del film sottile. Rapporti
Ogni lotto di Li2SiO3 è fornito con un certificato di analisi (COA)
e una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
. Su richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti opzionali.
Formula molecolare: Li₂SiO₃
Peso molecolare: 89,97 g/mol
Aspetto: Materiale solido bersaglio denso di colore bianco o biancastro
Densità: 2,52 g/cm³
Punto di fusione: 1201 °C
Struttura cristallina: Monoclino
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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