Ossido di litio e titanio (titanato di litio) (LTO)

Target di sputtering in ossido di litio e titanio Panoramica

I target di sputtering
in ossido di litio e titanio
sono materiali ceramici ad alta purezza progettati per processi di deposizione di film sottili nella ricerca avanzata sulle batterie, nell’elettroceramica e nello sviluppo di dispositivi di accumulo di energia. Caratterizzati da un’eccellente purezza di fase, densità uniforme e prestazioni di sputtering stabili, questi target consentono la fabbricazione di film sottili di alta qualità con stechiometria precisa e cristallinità superiore.

I nostri target di sputtering al titanato di litio sono prodotti utilizzando tecniche avanzate di sinterizzazione e pressatura a caldo per garantire una densità ottimale, difetti minimi e velocità di deposizione del film riproducibili. Offriamo un’assistenza post-vendita completa: non esitate a contattarci
per qualsiasi domanda.

Caratteristiche principali del prodotto

Purezza: ≥99,9% (personalizzabile su richiesta)
Alta densità e microstruttura uniforme
Dimensioni e forme personalizzate
Assistenza tecnica
per la selezione dei materiali

Applicazioni dei target di sputtering in titanato di litio

Materiali
per batterie
: elettrodi a film sottile per batterie agli ioni di litio e batterie allo stato solido
Elettroceramica: rivestimenti funzionali in dispositivi elettronici ed energetici
Elettroliti solidi: deposizione di strati protettivi o di interfaccia in batterie allo stato solido

Domande frequenti

D1: Per quali tipi di film sottili viene utilizzato principalmente il target di sputtering in ossido di litio e titanio?
A1: Questo bersaglio di sputtering viene utilizzato principalmente per la preparazione di film sottili funzionali di ossido di litio e titanio, comunemente presenti nei materiali relativi alle batterie al litio, nei dispositivi di accumulo di energia e nella ricerca sugli strati funzionali elettronici.

D2: Quali sono le caratteristiche del materiale ossido di litio e titanio nella ricerca sui film sottili?
A2: Questo sistema di materiali ha una buona stabilità strutturale, che lo rende adatto allo studio del comportamento elettrochimico, delle proprietà interfacciali e della consistenza di deposizione a lungo termine dei film sottili.

D3: Quali condizioni di processo di deposizione sono adatte per questo bersaglio di sputtering?
A3: I bersagli di sputtering in ossido di litio e titanio possono essere utilizzati nei comuni processi PVD come lo sputtering RF e sono compatibili con varie apparecchiature di sputtering sperimentali e su scala pilota.

D4: Quali aspetti devono essere considerati quando si utilizzano bersagli di sputtering in ossido di litio e titanio?
A4: È possibile ottenere risultati di deposizione stabili con parametri di processo ragionevoli. Si consiglia di ottimizzare il processo in base alle condizioni specifiche dell’apparecchiatura per garantire la ripetibilità e la consistenza dei film sottili. Rapporti
Ogni lotto di Li4Ti5O12 è fornito con un certificato di analisi (COA)
e una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS).
Su richiesta è possibile fornire analisi di terze parti.
Su richiesta sono disponibili rapporti XRD, SEM e di densità opzionali.