Ossido di litio alluminio cobalto

Panoramica dei target di sputtering in ossido di litio-alluminio-cobalto

I target di sputtering
in ossido di litio-alluminio-cobalto
sono target ceramici funzionali utilizzati per preparare film sottili di ossido composito a base di litio-cobalto, bilanciando la stabilità strutturale e le prestazioni elettrochimiche. Sono utilizzati principalmente nella ricerca sui film sottili relativi alle batterie agli ioni di litio, sugli strati funzionali elettrochimici e sui nuovi materiali energetici.

Siamo in grado di fornire target di sputtering LixAlyCo₁₋yO₂ con rapporti di composizione regolabili, compatibili con vari processi di deposizione. Contattateci
direttamente per informazioni tecniche e assistenza sulle soluzioni.

Caratteristiche principali del prodotto

Sistema di ossido composito a base di litio-cobalto
Introduzione dell’elemento alluminio per una struttura più stabile
Adatto per la deposizione uniforme di film sottili
Composizione chimica controllabile
Elevata densità del bersaglio
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering

Applicazioni dei bersagli di sputtering in ossido di litio-alluminio-cobalto

Ricerca sui materiali per film sottili per batterie agli ioni di litio:
comunemente utilizzati per preparare film sottili funzionali relativi alle batterie agli ioni di litio e per studiare il comportamento elettrochimico dei materiali catodici a film sottile in diverse condizioni strutturali e compositive.
Batterie allo stato solido e a film sottile:
nei campi delle batterie allo stato solido e a film sottile, questo bersaglio di sputtering può essere utilizzato per depositare strati attivi o funzionali, migliorando l’uniformità e la stabilità strutturale del film.
Preparazione di film di ossido funzionale:
questo materiale è adatto per la deposizione fisica da vapore (PVD) di film di ossido funzionale, mostrando una buona adattabilità nella ricerca sull’accumulo di energia e sui dispositivi elettronici.
Scienza dei materiali e ricerca universitaria:
ampiamente utilizzato negli istituti di ricerca e nei laboratori universitari per il controllo della composizione e la ricerca sulle prestazioni di nuovi film di ossido a base di litio.

Domande frequenti

D1: Per quali tipi di film sottili viene utilizzato principalmente il bersaglio di sputtering di ossido di litio, alluminio e cobalto?
A1: Questo target viene utilizzato principalmente per la deposizione di film sottili di ossido composito a base di litio-cobalto, comunemente utilizzati nella ricerca sui materiali elettrochimici ed energetici.

D2: Qual è l’effetto dell’introduzione dell’alluminio sul film sottile?
A2: L’alluminio contribuisce a migliorare la stabilità strutturale del materiale e, in una certa misura, aumenta l’uniformità del film durante la deposizione e l’uso.

Q3: Per quali metodi di sputtering è adatto questo target di sputtering?
A3: Può essere utilizzato nei comuni processi PVD come lo sputtering DC e lo sputtering RF, adattabile a varie condizioni delle apparecchiature.

Q4: Il materiale del target è stabile durante lo sputtering?
A4: Questo sistema di materiali mostra una buona stabilità di sputtering in condizioni di processo appropriate, rendendolo adatto per esperimenti di deposizione continui o ripetuti.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella preparazione e nell’applicazione di target di sputtering a base di litio e ossido di metallo di transizione. Siamo in grado di fornire soluzioni target con composizione regolabile e prestazioni stabili per soddisfare diversi requisiti di ricerca e di processo, aiutando i clienti a migliorare la controllabilità e la ripetibilità della preparazione di film sottili.