Ossido di litio e cobalto

Panoramica sui target di sputtering in ossido di litio e cobalto

I target di sputtering
in ossido di litio e cobalto
sono target in ossido ceramico progettati per la deposizione di strati funzionali di LiCoO₂ in film sottile. Sono ampiamente utilizzati nei film sottili delle batterie, nei dispositivi microenergetici e nella ricerca elettrochimica, dove sono richiesti un controllo preciso della composizione e un comportamento di deposizione stabile.

ULPMAT fornisce target di sputtering in ossido di litio e cobalto con stechiometria controllata e microstruttura densa, adatti per processi di sputtering RF e magnetron. I target sono progettati per supportare una crescita uniforme del film, velocità di sputtering stabili e prestazioni riproducibili del film sottile.

Caratteristiche principali del prodotto

Composizione stechiometrica LiCoO₂ per una chimica del film affidabile
Struttura ceramica densa che supporta un comportamento di sputtering stabile
Microstruttura uniforme per uno spessore del film costante
Adatto per sistemi di sputtering RF e magnetron
Buona compatibilità di adesione con substrati comuni
Progettato per applicazioni

con film sottili per batterie ed elettrochimica

Applicazioni del bersaglio di sputtering in ossido di litio e cobalto

Batterie agli ioni di litio a film sottile:
i bersagli di sputtering in ossido di litio e cobalto sono utilizzati per depositare strati catodici per dispositivi a film sottile e microbatterie.
Microelettronica e MEMS:
i film sottili di LiCoO₂ sono applicati in componenti di micro-accumulo di energia integrati con dispositivi elettronici.
Ricerca sui materiali elettrochimici ed energetici:
i target sono ampiamente utilizzati nella ricerca accademica e industriale per lo studio del trasporto di ioni di litio e delle prestazioni elettrochimiche in forma di film sottile.
Film sottili di ossido funzionale
: i target di ossido di litio e cobalto supportano lo sviluppo di rivestimenti di ossido funzionale per applicazioni avanzate legate all’energia.

Domande frequenti

D1: Quali metodi di sputtering sono adatti per i target di ossido di litio e cobalto?
R1: I target di sputtering di ossido di litio e cobalto sono tipicamente utilizzati nei sistemi di sputtering RF o magnetron.

D2: La perdita di litio è un problema durante lo sputtering?
R2: Una corretta progettazione del target e parametri di sputtering ottimizzati aiutano a mantenere la composizione del film e a ridurre la volatilità del litio.

D3: Questi target possono essere incollati alle piastre di supporto?
R3: Sì, i target possono essere forniti con opzioni di incollaggio adeguate a seconda dei requisiti del sistema.

D4: Quali substrati sono compatibili con i film sottili di LiCoO₂?
R4: I substrati comuni includono wafer di silicio, vetro, zaffiro e substrati metallici utilizzati nella ricerca sulle batterie a film sottile.

Rapporto

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere ULPMAT?

ULPMAT si concentra su materiali energetici avanzati e ossidi funzionali, offrendo qualità controllata, supporto tecnico e fornitura affidabile per applicazioni di target di sputtering nella ricerca sulle batterie e sui film sottili.