| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 140700ST001 | Si3N4 | 99.5% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST002 | Si3N4 | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST003 | Si3N4 | 99.9% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST004 | Si3N4 | 99.9% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST005 | Si3N4 | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST006 | Si3N4 | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST007 | Si3N4 | 99.9% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST008 | Si3N4 | 99.9% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST009 | Si3N4 | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST010 | Si3N4 | 99.5% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST011 | Si3N4 | 99.9% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST012 | Si3N4 | 99.9% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST013 | Si3N4 | 99.5% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST014 | Si3N4 | 99.5% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST015 | Si3N4 | 99.9% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST016 | Si3N4 | 99.9% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST017 | Si3N4 | 99.5% | Ø 203.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST018 | Si3N4 | 99.5% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST019 | Si3N4 | 99.9% | Ø 203.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST020 | Si3N4 | 99.9% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST021 | Si3N4 | 99.5% | 300mm x 186mm x 6mm | Inquire |
| 140700ST022 | Si3N4 | 99.9% | 378.2mm x 121.15mm x 6.35mm | Inquire |
| 140700ST023 | Si3N4 | 99.9% | 400mm x 289mm x 10mm | Inquire |
I target di sputtering
in nitruro di silicio
sono target ceramici ad alte prestazioni caratterizzati da estrema durezza, eccellente isolamento elettrico e straordinaria stabilità chimica. Utilizzati principalmente per il deposito di rivestimenti protettivi ad alta durezza, strati isolanti per semiconduttori e film sottili ottici speciali, sono materiali di rivestimento fondamentali nei settori degli strumenti di precisione, della microelettronica e dei dispositivi ad alta temperatura.
Forniamo target ceramici in nitruro di silicio ad alta purezza e alta densità. Siamo in grado di personalizzare varie dimensioni e specifiche in base alle vostre esigenze di processo e offriamo servizi professionali di incollaggio
di piastre di supporto in metallo.
Eccezionale durezza e resistenza all’usura
Eccellente isolamento elettrico
Eccellente stabilità termica e resistenza agli shock termici
Elevata inerzia chimica e resistenza alla corrosione
Film sottili uniformi e densi
Rivestimenti per utensili e stampi:
utilizzati per il rivestimento di utensili da taglio e stampi di stampaggio, migliorano significativamente la loro durata e la precisione di lavorazione.
Strati isolanti per semiconduttori:
fungono da strato isolante dielettrico di alta qualità nei circuiti integrati e nei sensori, garantendo un funzionamento stabile dei dispositivi.
Protezione dei componenti aerospaziali:
forniscono rivestimenti protettivi resistenti alle alte temperature e antiossidanti per i componenti dei motori, adatti ad ambienti estremi.
Dispositivi biomedici:
sfrutta la sua buona biocompatibilità e stabilità chimica per rivestimenti funzionali sulle superfici dei dispositivi impiantabili.
D1: Quali sono la purezza e la densità del target in nitruro di silicio?
R1: I nostri prodotti raggiungono tipicamente una purezza superiore al 99,9% e una densità di sinterizzazione superiore al 98% della densità teorica, garantendo un processo di sputtering stabile.
D2: Per quale processo di sputtering viene utilizzato principalmente?
R2: Si consiglia principalmente lo sputtering con magnetron a radiofrequenza (RF), poiché gestisce efficacemente questo materiale ceramico isolante.
D3: Quali forme e metodi di incollaggio potete fornire?
R3: Possiamo fornire varie forme, come circolari e rettangolari, e supportiamo l’incollaggio integrato con piastre di supporto come rame o molibdeno.
D4: Quali sono le caratteristiche prestazionali del film depositato?
R4: Il film di nitruro di silicio depositato presenta un’elevata durezza, un buon isolamento, proprietà chimiche stabili ed eccellenti prestazioni di barriera.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target di sputtering ceramici ad alte prestazioni e disponiamo di tecnologie avanzate di lavorazione delle polveri e sinterizzazione. Abbiamo una profonda conoscenza delle proprietà dei materiali in nitruro di silicio e siamo in grado di fornire un supporto professionale dalla selezione dei materiali alle raccomandazioni sui parametri di processo. Scegliendo noi, riceverete prodotti affidabili con dati dettagliati, insieme a servizi di supply chain efficienti e convenienti, che costituiscono una solida base per la vostra ricerca e produzione.
Formula molecolare: Si3N4
Peso molecolare: 140,28 g/mol
Aspetto: Bersaglio denso grigio chiaro
Punto di fusione: 1900 °C (si decompone)
Struttura cristallina: Esagonale (α-Si3N4); Tetragonale o romboedrica (β-Si3N4)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
