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Silicio Cromo

Chemical Name:
Silicio Cromo
Formula:
SiCr
Product No.:
142400
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
142400ST001 SiCr 99.5% Ø 76.2mm x 3.175 mm Inquire
142400ST002 SiCr 99.99% Ø 76.2mm x 6.35 mm Inquire
142400ST003 SiCr 99.9% 249mm x 127mm x 15mm Inquire
Product ID
142400ST001
Formula
SiCr
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2mm x 3.175 mm
Product ID
142400ST002
Formula
SiCr
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2mm x 6.35 mm
Product ID
142400ST003
Formula
SiCr
Purity
99.9%
Dimension
249mm x 127mm x 15mm

Panoramica sui target di sputtering in silicio-cromo

I target di sputtering
in silicio-cromo
sono target in lega di silicio-cromo adatti alla preparazione di film sottili funzionali con buona adesione e stabilità termica. Sono comunemente utilizzati nella microelettronica, negli strati barriera, nei rivestimenti resistenti alla corrosione e nelle relative applicazioni di film sottili funzionali.

Siamo in grado di fornire target di sputtering in silicio-cromo compatibili con il processo e di supportare
l’integrazione tecnica
della progettazione della composizione e dei parametri di deposizione.

Caratteristiche principali del prodotto

Composizione del film controllabile
Buona stabilità termica
Eccellente adesione
Adatto a vari processi di sputtering
Buona uniformità di processo

Applicazioni dei target di sputtering al silicio-cromo

Microelettronica e film sottili per circuiti integrati:
i film di silicio-cromo sono comunemente utilizzati nei dispositivi microelettronici come strati funzionali o strati strutturali ausiliari.
Strati barriera e ingegneria delle interfacce:
nelle strutture multistrato, i film di SiCr possono essere utilizzati per migliorare la stabilità dell’interfaccia e la compatibilità dei materiali.
Rivestimenti funzionali e resistenti alla corrosione:
adatti per sistemi di rivestimento funzionali che richiedono resistenza alla corrosione e stabilità termica.
Ricerca e sviluppo di processi:
utilizzati per la verifica dei processi e l’ottimizzazione dei parametri di nuove strutture a film sottile.

Domande frequenti

D1: Quali applicazioni a film sottile sono adatte per i target di sputtering al silicio-cromo?
R1: Utilizzati principalmente in microelettronica, strati barriera, film sottili funzionali e rivestimenti resistenti alla corrosione.

D2: Q3: Per quali metodi di sputtering può essere utilizzato questo bersaglio?
A3: Adatto per i comuni processi di deposizione di film sottili come lo sputtering magnetronico.

Q4: La composizione della lega influisce sulle prestazioni del film?
A4: Una corretta progettazione della composizione aiuta a ottimizzare le proprietà interfacciali e le prestazioni complessive del film.

Q5: Quali sono i vantaggi di utilizzare bersagli di sputtering in lega di silicio-cromo?

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo esperienza nella progettazione e nella fornitura di target di sputtering in lega e siamo in grado di fornire target di sputtering in silicio-cromo stabili e tracciabili per supportare i clienti nella verifica dei processi e nell’ottimizzazione delle prestazioni dei film sottili prima della ricerca e sviluppo e della produzione di massa.

Formula molecolare: SiCr
Aspetto: Bersaglio denso grigio-argento
Densità: 6,2-6,5 g/cm³ (a seconda del rapporto Si:Cr)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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