I target di sputtering
in silicio-cromo
sono target in lega di silicio-cromo adatti alla preparazione di film sottili funzionali con buona adesione e stabilità termica. Sono comunemente utilizzati nella microelettronica, negli strati barriera, nei rivestimenti resistenti alla corrosione e nelle relative applicazioni di film sottili funzionali.
Siamo in grado di fornire target di sputtering in silicio-cromo compatibili con il processo e di supportare
l’integrazione tecnica
della progettazione della composizione e dei parametri di deposizione.
Composizione del film controllabile
Buona stabilità termica
Eccellente adesione
Adatto a vari processi di sputtering
Buona uniformità di processo
Microelettronica e film sottili per circuiti integrati:
i film di silicio-cromo sono comunemente utilizzati nei dispositivi microelettronici come strati funzionali o strati strutturali ausiliari.
Strati barriera e ingegneria delle interfacce:
nelle strutture multistrato, i film di SiCr possono essere utilizzati per migliorare la stabilità dell’interfaccia e la compatibilità dei materiali.
Rivestimenti funzionali e resistenti alla corrosione:
adatti per sistemi di rivestimento funzionali che richiedono resistenza alla corrosione e stabilità termica.
Ricerca e sviluppo di processi:
utilizzati per la verifica dei processi e l’ottimizzazione dei parametri di nuove strutture a film sottile.
D1: Quali applicazioni a film sottile sono adatte per i target di sputtering al silicio-cromo?
R1: Utilizzati principalmente in microelettronica, strati barriera, film sottili funzionali e rivestimenti resistenti alla corrosione.
D2: Q3: Per quali metodi di sputtering può essere utilizzato questo bersaglio?
A3: Adatto per i comuni processi di deposizione di film sottili come lo sputtering magnetronico.
Q4: La composizione della lega influisce sulle prestazioni del film?
A4: Una corretta progettazione della composizione aiuta a ottimizzare le proprietà interfacciali e le prestazioni complessive del film.
Q5: Quali sono i vantaggi di utilizzare bersagli di sputtering in lega di silicio-cromo?
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Abbiamo esperienza nella progettazione e nella fornitura di target di sputtering in lega e siamo in grado di fornire target di sputtering in silicio-cromo stabili e tracciabili per supportare i clienti nella verifica dei processi e nell’ottimizzazione delle prestazioni dei film sottili prima della ricerca e sviluppo e della produzione di massa.
Formula molecolare: SiCr
Aspetto: Bersaglio denso grigio-argento
Densità: 6,2-6,5 g/cm³ (a seconda del rapporto Si:Cr)
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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