Boruro di titanio

Target di sputtering in boruro di titanio Panoramica

Il target di sputtering
in boruro di titanio
è un target ceramico ad alta durezza e alto punto di fusione con eccellente conduttività elettrica e stabilità chimica. È ampiamente utilizzato nello sviluppo di rivestimenti ad alta durezza, film ceramici conduttivi, film sottili funzionali e materiali scientifici per film sottili.

Offriamo target di sputtering TiB₂ con composizione uniforme e struttura densa, adatti per sistemi di sputtering magnetron DC o RF. Contattateci
per specifiche dettagliate e informazioni tecniche.

Caratteristiche principali del prodotto

Target ceramico ad alta durezza e alto punto di fusione
Buona conduttività elettrica, deposizione stabile di film sottili
Resistenza alle alte temperature e alla corrosione, forte stabilità termica
Adatto per deposizioni ad alta temperatura, sotto vuoto e in atmosfera inerte
Elevata uniformità dei lotti Dimensioni e forme
personalizzabili

Adatto alla preparazione di film sottili scientifici e industriali

Applicazioni del bersaglio di sputtering in diboruro di titanio

Rivestimenti ad alta durezza e resistenti all’usura:
può essere utilizzato per preparare rivestimenti resistenti all’usura e ad alta durezza, ampiamente utilizzati sulle superfici di utensili da taglio, stampi e attrezzature industriali.
Pellicole ceramiche conduttive e pellicole composite:
grazie alla sua conduttività e stabilità chimica, il TiB2 può essere utilizzato per preparare pellicole composite metallo-ceramiche e pellicole ceramiche conduttive per dispositivi elettronici e materiali funzionali.
Ricerca e sviluppo di film sottili:
applicabile alla ricerca sui film sottili funzionali TiB2, allo sviluppo di nuovi rivestimenti ad alta durezza e ai test sulle prestazioni dei film.
Rivestimenti resistenti alla corrosione ad alta temperatura:
i film TiB2 mostrano stabilità in ambienti ad alta temperatura e corrosivi, rendendoli adatti per rivestimenti protettivi e dispositivi elettronici ad alta temperatura.

Domande frequenti

D1: Quale metodo di sputtering è adatto per i target TiB2?
R1: Adatto per lo sputtering con magnetron DC e lo sputtering con magnetron RF. Ha una buona conduttività ed è adattabile a vari processi PVD.

D2: La composizione dei target TiB2 è stabile durante la sputtering?
R2: In condizioni di processo appropriate, il target mantiene una composizione chimica stabile, con conseguente buona ripetibilità e uniformità del film.

D3: I target TiB2 sono adatti alla deposizione ad alta temperatura?
R3: Sì, questo target ha un’eccellente stabilità termica e resistenza agli shock termici, che lo rendono adatto alla deposizione di film sottili ad alta temperatura.

D4: Quali sono le principali applicazioni dei target di sputtering TiB2?
R4: Utilizzati principalmente nello sviluppo di rivestimenti resistenti all’usura, film ceramici conduttivi, film funzionali e materiali scientifici per film sottili.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Report di controllo delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla ricerca e la fornitura di target di sputtering ceramici ad alte prestazioni, garantendo che i target di sputtering TiB2 soddisfino gli standard scientifici e industriali in termini di struttura del materiale, densificazione e compatibilità di sputtering, fornendo una garanzia affidabile per la preparazione di film sottili funzionali e rivestimenti ad alta durezza.