I target di sputtering
in carburo di titanio-biossido di titanio
sono composti da carburo di titanio e biossido di titanio, combinando l’elevata durezza e l’alta conduttività del TiC con la stabilità chimica e le proprietà del film di ossido del TiO₂. Questo bersaglio composito può essere utilizzato per controllare le proprietà meccaniche, elettriche e la funzionalità superficiale dei film sottili ed è ampiamente utilizzato nella preparazione di rivestimenti funzionali, film resistenti all’usura e film compositi multifunzionali.
Siamo in grado di fornire bersagli per sputtering TiC-TiO2 con composizione uniforme e struttura densa, adatti per processi di sputtering con magnetron DC o RF. Siamo inoltre in grado di fornire diverse dimensioni, forme e soluzioni di incollaggio
in base alle esigenze delle apparecchiature dei clienti per soddisfare le applicazioni di ricerca e industriali.
Combinazione dell’elevata durezza del TiC con le proprietà funzionali dell’ossido di TiO₂.
Il design composito aiuta a controllare le proprietà elettriche e meccaniche del film sottile.
Buona stabilità chimica e adattabilità ambientale. Struttura del target densa, adatta a processi di sputtering stabili.
Applicabile a vari processi di deposizione di film sottili PVD.
Rivestimenti compositi resistenti all’usura e funzionali:
possono essere utilizzati per preparare film sottili compositi con resistenza all’usura e funzionalità superficiale, adatti per parti meccaniche e superfici ingegneristiche.
Ossidi funzionali e film sottili compositi:
attraverso lo sputtering composito, è possibile ottenere strutture a film sottile che bilanciano le proprietà meccaniche e le caratteristiche funzionali, per la ricerca su dispositivi funzionali e applicazioni ingegneristiche.
Ingegneria delle superfici e modifica dei materiali:
adatto a sistemi di materiali che richiedono un miglioramento simultaneo della durezza superficiale, della stabilità e della risposta funzionale.
Ricerca e sviluppo di processi:
ampiamente utilizzato in università, istituti di ricerca e laboratori per la ricerca su sistemi di film sottili compositi e l’ottimizzazione dei parametri di processo.
D1: Quali sono le caratteristiche principali dei target di sputtering in carburo di titanio-biossido di titanio?
A1: Questo materiale target ottiene un’ottimizzazione sinergica delle proprietà meccaniche e funzionali del film sottile attraverso un design composito di carburo e ossido.
D2: Per quali metodi di sputtering è adatto il target di carburo di titanio-biossido di titanio?
A2: In genere può essere utilizzato per lo sputtering con magnetron a corrente continua o lo sputtering con magnetron a radiofrequenza, a seconda delle condizioni dell’apparecchiatura e dei requisiti di processo.
D3: Quali vantaggi prestazionali possiedono i film sottili depositati utilizzando questo materiale target?
A3: I film sottili presentano tipicamente una buona resistenza all’abrasione, stabilità chimica e proprietà elettriche o funzionali superficiali sintonizzabili.
D4: Il materiale target composito contribuisce a migliorare la stabilità strutturale del film sottile?
A4: Il design del sistema composito contribuisce a migliorare la stabilità strutturale complessiva e l’affidabilità di servizio del film sottile.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
Siamo specializzati in target di sputtering compositi e materiali inorganici avanzati, ponendo l’accento sulla densità del target, la consistenza della composizione e l’adattabilità del processo. Forniamo soluzioni di materiali stabili e affidabili per la deposizione di film sottili compositi TiC-TiO2.
Formula molecolare: TiC-TiO₂
Aspetto: Materiale target da grigio-nero a grigio scuro
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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