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Siliciuro di cobalto

Chemical Name:
Siliciuro di cobalto
Formula:
CoSi2
Product No.:
271400
CAS No.:
12017-12-8
EINECS No.:
234-616-8
Form:
Polvere
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
271400PD001 CoSi2 99.5% -325 Mesh Inquire
Product ID
271400PD001
Formula
CoSi2
Purity
99.5%
Dimension
-325 Mesh

Panoramica sulla polvere di siliciuro di cobalto

La polvere
di siliciuro di cobalto
è una polvere di siliciuro di cobalto ad alta purezza con eccellente conduttività elettrica e stabilità termica, ampiamente utilizzata nei dispositivi a semiconduttori e nella deposizione di film sottili microelettronici.

Offriamo polvere CoSi2 in varie dimensioni delle particelle, purezze e specifiche di confezionamento, e supportiamo test su campioni e consulenza tecnica. Contattateci
per informazioni dettagliate e soluzioni applicative.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura cristallina uniforme e densa

Eccellente conduttività elettrica

Buona stabilità termica

Chimicamente stabile

Dimensioni delle particelle e purezza personalizzabili

Consistenza dei lotti rigorosamente controllata

Tempi di consegna flessibili

Applicazioni del siliciuro di cobalto

Dispositivi a semiconduttori:
la polvere CoSi2 viene utilizzata per preparare strati di metallizzazione nei dispositivi a semiconduttori, migliorando la conduttività e la stabilità dei dispositivi.

Deposizione di film sottili microelettronici
: adatto per la deposizione di film sottili in dispositivi microelettronici, garantisce film densi e uniformi e prestazioni elettriche affidabili.

Materiali di contatto ad alta temperatura:
può essere utilizzato come materiale di contatto in ambienti ad alta temperatura, mostrando una buona stabilità termica e conduttività elettrica.

Ricerca e sviluppo dei materiali:
ampiamente utilizzato negli istituti di ricerca e nei dipartimenti di ricerca e sviluppo aziendali per i test sulle prestazioni dei nuovi materiali e l’ottimizzazione dei processi.

Domande frequenti

D1: Per quali processi di deposizione è adatta la polvere di siliciuro di cobalto?
R1: Può essere utilizzata in processi di film sottile microelettronico come sputtering magnetronico, sputtering RF e deposizione chimica da vapore.

D2: La dimensione delle particelle di polvere influisce sui risultati della deposizione?
R2: Sì, l’uniformità della dimensione delle particelle influisce direttamente sulla densità e sulle proprietà elettriche del film depositato. La dimensione appropriata delle particelle deve essere selezionata in base all’applicazione.

D3: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio della polvere di CoSi2?
A3: Si raccomanda di conservarla in un ambiente sigillato, asciutto e ventilato, evitando l’umidità e la contaminazione per garantire la stabilità delle prestazioni della polvere.

D4: Potete fornire polvere di CoSi2 di diversi gradi di purezza?
A4: Sì, possiamo fornire polvere di elevata purezza o di gradi di purezza specifici in base alle esigenze del cliente.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:

Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)

Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla ricerca e sviluppo e sulla fornitura stabile di polvere di siliciuro di cobalto ad alta purezza.
Grazie a un sistema di gestione della qualità maturo e a capacità di personalizzazione flessibili, siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alle applicazioni industriali, contribuendo all’efficiente svolgimento dei progetti.

Formula molecolare: CoSi₂

Peso molecolare: 115,11 g/mol

Aspetto: Da grigio-argento a nero

Densità: 6,00 g/cm³

Punto di fusione: 1.400 ℃

Struttura cristallina: Cubica a facce centrate

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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