Siliciuro di cobalto

Target di sputtering in siliciuro di cobalto Panoramica

I target di sputtering
in siliciuro di cobalto
sono target in siliciuro di cobalto ad alta purezza con eccellente conduttività e stabilità termica, ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili semiconduttori, dispositivi microelettronici e strati conduttivi ad alta temperatura.

Offriamo target di sputtering CoSi2 in varie dimensioni, forme cristalline e gradi di purezza e forniamo assistenza per test su campioni e consulenza tecnica. Contattateci
per informazioni dettagliate e soluzioni di processo.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura cristallina densa e uniforme

Conduttività stabile

Eccellente stabilità termica

Resistenza alla corrosione e all’usura

Adatto a vari processi di sputtering

Dimensioni e forma cristallina personalizzabili

Backplane e incollaggio personalizzabili

Supporta esperimenti di ricerca scientifica e verifica dei processi

Applicazioni dei target di sputtering in siliciuro di cobalto

Preparazione di film sottili semiconduttori:
i target in siliciuro di cobalto sono adatti alla deposizione di film sottili semiconduttori, garantendo film densi e uniformi e migliorando la conduttività dei dispositivi.

Deposizione di dispositivi microelettronici:
utilizzati per la deposizione di strati di metallizzazione in dispositivi microelettronici, migliorano la stabilità e l’affidabilità delle prestazioni dei dispositivi.

Strati conduttivi ad alta temperatura:
i film sottili conduttivi possono essere depositati ad alte temperature, mostrando una buona stabilità termica e conduttività.

Ricerca e sviluppo dei materiali:
ampiamente utilizzati negli istituti di ricerca e nei dipartimenti di ricerca e sviluppo aziendali per i test sulle prestazioni dei materiali e l’ottimizzazione dei parametri di processo.

Domande frequenti

D1: Per quali metodi di sputtering è adatto il target di sputtering al siliciuro di cobalto?
A1: Può essere utilizzato in processi a film sottile come la polverizzazione magnetronica, la polverizzazione RF e la deposizione chimica da vapore per soddisfare le esigenze di deposizione microelettronica.

D2: La forma cristallina del target può essere personalizzata?
A2: Sì, possiamo fornire diverse forme cristalline dei target in base alle esigenze dei clienti per ottimizzare le prestazioni dei film sottili.

D3: Il target è soggetto a crepe durante la polverizzazione?
A3: Preparato utilizzando un processo metallurgico ad alta densità, i grani sono uniformi, il che riduce efficacemente il rischio di crepe e vuoti.

Q4: Quali precauzioni devono essere prese durante la conservazione del bersaglio?
A4: Si consiglia di conservarlo in un ambiente sigillato, asciutto e ventilato, evitando l’umidità e la contaminazione per mantenere la stabilità delle prestazioni.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:

Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)

Rapporto di ispezione delle dimensioni

Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella fornitura stabile di target di sputtering in siliciuro di cobalto ad alta purezza
. Grazie a un sistema di gestione della qualità maturo e a capacità di personalizzazione flessibili, siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni affidabili e tracciabili adatte alla ricerca scientifica e alle applicazioni industriali, contribuendo al progresso efficiente dei progetti.