I target di sputtering
in cobalto metallico
possiedono un’eccellente conduttività e stabilità alle alte temperature, che li rendono ampiamente utilizzati nella fabbricazione di materiali elettronici, a film sottile e optoelettronici.
Offriamo target di sputtering in cobalto metallico ad alta purezza per soddisfare varie esigenze di deposizione di film sottili. Contattateci
per soluzioni personalizzate.
L’alta purezza garantisce prestazioni di sputtering stabili.
Buona conduttività, adatta per una deposizione efficiente di film sottili.
Elevata stabilità alle alte temperature, adatta per ambienti ad alta temperatura.
L’alta densità garantisce un effetto di sputtering uniforme.
Dimensioni personalizzabili per soddisfare le diverse esigenze delle apparecchiature.
Il rigoroso controllo di qualità garantisce la coerenza del prodotto e le elevate prestazioni.
Produzione di semiconduttori:
i bersagli di sputtering in cobalto metallico sono materiali chiave per la produzione di film sottili e circuiti integrati, ampiamente utilizzati nell’industria dei semiconduttori.
Industria optoelettronica:
nella produzione di dispositivi optoelettronici, i target in metallo cobalto sono utilizzati per la deposizione di film sottili, fornendo eccellenti proprietà elettriche e ottiche.
Celle solari:
la deposizione di film sottili fotovoltaici utilizzati nelle celle solari contribuisce a migliorare l’efficienza di conversione fotoelettrica.
Materiali magnetici:
come materiale per film sottili magnetici ad alte prestazioni, i target in metallo cobalto hanno ampie applicazioni nella memorizzazione magnetica e nei sensori.
D1: Qual è la purezza dei target metallici di cobalto?
R1: I nostri target metallici di cobalto raggiungono una purezza del 99,95%, garantendo stabilità nella deposizione ad alta precisione.
D2: Per quali apparecchiature sono adatti i target metallici di cobalto?
R2: I target metallici di cobalto sono ampiamente utilizzati nelle apparecchiature di sputtering magnetronico, nelle apparecchiature di rivestimento per sputtering e in altre apparecchiature di deposizione di film sottili.
D3: È possibile personalizzare le dimensioni dei target metallici al cobalto?
R3: Sì, possiamo fornire target metallici al cobalto in dimensioni personalizzate in base alle esigenze del cliente.
D4: Qual è la durata dei target metallici al cobalto?
R4: La durata dei target metallici al cobalto dipende dall’ambiente operativo e dalle condizioni di deposizione, ma in condizioni normali è possibile garantire una lunga durata.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta
I nostri target di sputtering in metallo cobalto offrono elevata purezza, stabilità e eccellenti prestazioni di sputtering. In combinazione con servizi personalizzati e assistenza post-vendita professionale, siamo la scelta ideale per una collaborazione a lungo termine.
Formula molecolare: Co
Peso molecolare: 58,93 g/mol
Aspetto: Argento-grigio metallico
Densità: 8,90 g/cm³ (densità teorica, 20 ℃)
Punto di fusione: 1495 ℃
Punto di ebollizione: 2927 ℃
Struttura cristallina: Struttura esagonale a pacchetti ravvicinati
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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