Metallo rodio

Panoramica sui target di sputtering in metallo rodio

I target di sputtering
in metallo rodio
sono materiali metallici nobili ad alta purezza con eccellente resistenza alla corrosione, stabilità chimica e alta riflettività. La loro eccezionale stabilità termica e l’uniformità di deposizione del film sottile li rendono un materiale fondamentale nella produzione di dispositivi elettronici, rivestimenti ottici e sensori di alta precisione. Questi target possono essere utilizzati in vari sistemi di sputtering PVD, adatti sia alla ricerca che alla produzione industriale.

Offriamo target di sputtering in rodio in varie dimensioni e forme, inclusi target circolari, rettangolari e rotanti, e possiamo personalizzare lo spessore e i gradi di purezza in base alle esigenze del cliente. Contattateci
per un preventivo.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza (99,99%)
Eccellente uniformità del film sottile
Elevata riflettività e resistenza all’ossidazione
Adatto per sputtering ad alta potenza
Buona stabilità termica Dimensioni e forme
personalizzabili

Superficie liscia, facile installazione
Elevata uniformità dei lotti

Applicazioni del target di sputtering in metallo rodio

Rivestimenti
ottici
: utilizzati per la produzione di film sottili ottici ad alta riflettività e resistenti all’usura.
Dispositivi microelettronici: adatti per la deposizione di chip, elettrodi e contatti.
Deposizione di strati catalitici: utilizzato per film sottili catalitici per emissioni automobilistiche e catalitici industriali.
Produzione di sensori: fornisce materiali a film sottile con conduttività stabile e resistenza alla corrosione.

Domande frequenti

D1: Qual è il metodo di imballaggio dei target?
R1: Tutti i target di sputtering al rodio sono confezionati in imballaggi sottovuoto a prova di umidità con robusti materiali di imbottitura per garantire la protezione da contaminazione e danni meccanici durante il trasporto.

D2: Ci sono requisiti speciali per il trasporto?
R2: I target non richiedono il trasporto con catena del freddo, ma forniamo misure di protezione antiurto e a prova di umidità adatte alla spedizione internazionale.

D3: Quali sono i vantaggi principali dei target di sputtering al rodio?
R3: Elevata purezza, film uniforme e forte resistenza alla corrosione, adatti per processi ottici, elettronici e catalitici di alta gamma con film sottili.

Q4: Come conservare i target per mantenerne le prestazioni?
A4: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto e poco polveroso, mantenendo sigillata la confezione originale ed evitando l’esposizione prolungata all’aria per ridurre l’ossidazione superficiale.

Rapporti

Ogni lotto è fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti.

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e nella produzione di target di sputtering in metalli preziosi, fornendo target di sputtering in rodio ad alta purezza e alta densità adatti a vari sistemi PVD. Grazie a processi di sinterizzazione avanzati, un rigoroso controllo di qualità e una catena di fornitura stabile, forniamo soluzioni affidabili e tracciabili per gli istituti di ricerca e i clienti industriali. Supportiamo la personalizzazione, la risposta rapida e la logistica globale, garantendo ai nostri clienti target ad alte prestazioni e garanzie di servizio complete.