I target di sputtering
al sulfuro di molibdeno – tantalio
sono materiali compositi ad alte prestazioni che combinano il basso attrito del MoS2 con l’elevata durezza del tantalio, rendendoli adatti alla deposizione di film sottili ad alta precisione. Questi target sono ampiamente utilizzati nei dispositivi microelettronici, nei rivestimenti ottici, nei rivestimenti duri e nei dispositivi a film sottile di nuova energia, migliorando l’adesione del film e le prestazioni funzionali.
Offriamo target di sputtering MoS₂-Ta in varie dimensioni e con rapporti di drogaggio del tantalio controllabili, supportando la lavorazione personalizzata per soddisfare le esigenze della ricerca e della produzione industriale di massa. Contattateci
subito.
Elevata purezza
Drogaggio uniforme con Ta per migliorare le prestazioni del film
Eccellente resistenza meccanica e resistenza all’usura
Buona conduttività elettrica
Adatto per la deposizione mediante sputtering ad alta precisione
Dimensioni e forme personalizzate supportate
Dispositivi microelettronici: utilizzati per la produzione di film sottili conduttivi o lubrificanti ad alte prestazioni.
Rivestimenti ottici:
migliorano la riflessione speculare e la resistenza all’usura.
Rivestimenti duri: forniscono una protezione resistente all’usura sulle superfici di utensili o parti di macchine.
Dispositivi a film sottile per nuove energie: deposizione di alta qualità per celle solari e dispositivi di accumulo di energia.
D1: Quali sono le opzioni di imballaggio per i prodotti?
R1: Forniamo imballaggi a prova di umidità e sigillati per garantire che i prodotti non siano soggetti a contaminazione o umidità durante il trasporto.
D2: I prodotti possono essere sottoposti a lavorazioni secondarie?
R2: Sì, supportiamo il taglio, la foratura, la lavorazione meccanica e la lucidatura superficiale per soddisfare le esigenze di installazione di diverse attrezzature.
D3: Quali precauzioni devono essere prese durante lo stoccaggio dei prodotti?
R3: Conservare in un ambiente asciutto e fresco, evitando l’esposizione prolungata all’aria e all’umidità elevata per prevenire l’ossidazione o il degrado delle prestazioni.
D4: Come vengono garantite la purezza e le prestazioni del prodotto?
A4: Ogni lotto di prodotti viene sottoposto ad analisi dei componenti e test delle proprietà fisiche per garantire un’elevata purezza e una distribuzione uniforme del Ta, garantendo così l’effetto di deposizione del film sottile.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test di terze parti.
Fornitura di materiali professionali: anni di esperienza nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target per sputtering.
Rigoroso controllo di qualità: monitoraggio completo del processo di composizione, densità e proprietà meccaniche.
Servizi personalizzati: supporto per diversi rapporti di drogaggio, dimensioni e requisiti di forma.
Assistenza tecnica completa: fornitura di indicazioni sul processo di deposizione e soluzioni applicative per garantire l’esecuzione fluida del progetto.
Sceglieteci per ottenere target MoS₂:Ta ad alte prestazioni e assistenza tecnica
completa, rendendo la vostra deposizione di film sottile più efficiente e stabile.
Formula chimica: MoS2-Ta
Aspetto: Disco o materiale bersaglio rettangolare di colore grigio-nerastro o grigio scuro con superficie liscia.
Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci
