Siliciuro di molibdeno

Panoramica sui target di sputtering in siliciuro di molibdeno

I target di sputtering
in siliciuro di molibdeno
sono materiali ceramici resistenti alla corrosione ad alta temperatura formati dalla combinazione di molibdeno e silicio. Possiedono un’eccellente stabilità alle alte temperature, conduttività elettrica e resistenza all’ossidazione. I film sottili preparati da questi target sono comunemente utilizzati nei dispositivi microelettronici, nei rivestimenti duri, negli strati barriera e nei film funzionali optoelettronici, rendendoli uno dei materiali target più importanti nell’ingegneria dei semiconduttori e dei film sottili ad alte prestazioni.

Siamo in grado di produrre target di sputtering MoSi2 di varie purezze, dimensioni, forme e densità in base alle esigenze del cliente. Forniamo anche servizi di lucidatura superficiale, incollaggio sottovuoto, regolazione del rapporto di composizione specifico e personalizzazione dei lotti per soddisfare i requisiti di processo dei clienti. Non esitate a contattarci.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata stabilità all’ossidazione ad alta temperatura
Deposizione uniforme del film con poche particelle
Supporta la lavorazione di precisione e dimensioni personalizzate
Basso contenuto di impurità e proprietà elettriche stabili
Buona resistenza alla corrosione e conduttività elettrica
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering a magnetron

Applicazioni dei target di sputtering in siliciuro di molibdeno

Utilizzati per la deposizione di strati barriera e film conduttivi nell’industria dei semiconduttori
.
Le applicazioni includono la preparazione di strati protettivi duri e rivestimenti resistenti all’usura.
Funge da materiale funzionale per film sottili nei componenti optoelettronici
.
Viene utilizzato nella ricerca relativa ai film sottili elettronici e strutturali ad alta temperatura.

Domande frequenti

D1: Come vengono imballati i target MoSi2 per il trasporto?
A1: Il prodotto è sigillato sottovuoto e imballato con uno strato di imbottitura resistente alla pressione e una scatola esterna rigida per garantire che non si verifichino contaminazioni o danni durante il trasporto.

D2: Supportate la lavorazione dei target, come dimensioni speciali o trattamenti superficiali?
A2: Sì, siamo in grado di fornire lavorazioni di precisione, lucidatura, incollaggio di backplane e forme non standard personalizzate per soddisfare le diverse esigenze applicative.

D3: Come devono essere conservati i target per mantenere la stabilità delle prestazioni?
A3: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto e sigillato, evitando il contatto con umidità e sostanze corrosive per mantenere la pulizia della superficie e la stabilità delle proprietà fisiche del bersaglio.

Q4: Come garantite la purezza del prodotto? Potete fornire i relativi test?
A4: Tutti i bersagli di sputtering sono prodotti utilizzando materie prime di elevata purezza e testati con metodi quali XRF, ICP e XRD. Sono disponibili rapporti completi di analisi dei materiali e certificati di qualità.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test effettuati da terzi.

Perché scegliere noi?

Abbiamo molti anni di esperienza nella produzione di target per sputtering composti e composti intermetallici, siamo dotati di attrezzature avanzate per la metallurgia delle polveri e di un rigoroso sistema di gestione della qualità. Siamo in grado di fornire continuamente target di sputtering MoSi₂ ad alta purezza, alta densità e altamente uniformi. Offriamo ai nostri clienti capacità di personalizzazione flessibili, supporto tecnico, consegna rapida e un servizio di supply chain stabile, che ci rendono un partner affidabile a lungo termine per istituti di ricerca, aziende di semiconduttori e l’industria di produzione di film sottili.