Ossido di ittrio

 Target di sputtering in ossido di ittrio Panoramica

I target di sputtering
in ossido di ittrio
sono target in ossido di ittrio ad alta purezza ampiamente utilizzati nei rivestimenti ottici, nella produzione di semiconduttori e nella deposizione di film sottili.

Offriamo target di sputtering in ossido di ittrio in varie dimensioni, purezze e forme e possiamo personalizzarli per soddisfare diverse esigenze di deposizione di film sottili e di produzione. Non esitate a contattarci
per informazioni dettagliate sui prodotti e soluzioni personalizzate.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, adatto per applicazioni di precisione
Buona stabilità di sputtering
Dimensioni e forme personalizzabili
Backplane e metodi di incollaggio personalizzabili
Eccellente stabilità termica e resistenza alla corrosione
Adatto a una varietà di materiali a film sottile
Prestazioni di sputtering ottimizzate
Controllo preciso della composizione chimica

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di ittrio

Rivestimenti
ottici
: materiali di rivestimento ottico utilizzati nella produzione di specchi, pellicole ottiche e display. Produzione
di semiconduttori
: svolge un ruolo cruciale nella deposizione di film sottili per dispositivi a semiconduttori.
Celle solari
: preparazione dei materiali per celle solari a film sottile.
Film sottili funzionali: ampiamente utilizzati nella produzione di film sottili magnetici e film sottili per batterie.

Domande frequenti

D1: Come viene controllata la purezza dei target di sputtering di ossido di ittrio?
R1: Garantiamo che la purezza dei nostri target di sputtering di ossido di ittrio raggiunga il 99,9% o più. Controlliamo il contenuto di impurità attraverso rigorose procedure di controllo qualità per garantire l’idoneità ad applicazioni di alta precisione.

D2: È possibile personalizzare le dimensioni dei target di sputtering in ossido di ittrio?
R2: Sì, siamo in grado di fornire servizi personalizzati per diverse dimensioni, forme e tipi di piastre di supporto in base alle esigenze dei clienti, al fine di soddisfare i vari processi di deposizione di film sottili.

D3: Come viene progettato l’imballaggio dei target di sputtering in Y2O3?
A3: Utilizziamo imballaggi a prova di umidità e urti per garantire che i target non siano esposti all’umidità o a danni durante il trasporto. Gli imballaggi comuni includono imballaggi sottovuoto e casse di legno rinforzate.

Q4: Qual è la durata dei target di sputtering in Y2O3?
A4: I target di sputtering in ossido di ittrio hanno una lunga durata, sono adatti per applicazioni di sputtering a lungo termine e presentano una buona stabilità di sputtering e un’elevata durata.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca, nello sviluppo e nella produzione di target di sputtering Y2O3 ad alta purezza. Con anni di esperienza e un rigoroso controllo di qualità, forniamo prodotti stabili e affidabili e servizi personalizzati, diventando il vostro partner di fiducia.