Ossido di stronzio e rutenio

Target di sputtering in ossido di stronzio-rutenio

Panoramica
I target di sputtering in ossido di stronzio-rutenio
ad alta purezza sono adatti alla fabbricazione di film sottili funzionali e dispositivi elettronici.

Offriamo target di sputtering in SrRuO3 ad alta densità in varie specifiche, adatti alla ricerca scientifica e alla deposizione industriale di film sottili. Contattateci
per richiedere campioni o personalizzare le dimensioni dei target. Forniamo assistenza tecnica professionale e servizio post-vendita.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta purezza
Denso e uniforme, non poroso
Eccellente conduttività elettrica e stabilità termica
Facile deposizione mediante sputtering
Supporta varie forme e dimensioni dei target
Servizi di incollaggio dei target disponibili
Chimicamente stabile
Soddisfa le esigenze della ricerca scientifica e dei film sottili industriali
Forte capacità di produzione personalizzata

Applicazioni dei target per sputtering di ossido di stronzio-rutenio

Preparazione di film sottili conduttivi in dispositivi elettronici.
Ottenimento di strati conduttivi ad alte prestazioni in film sottili ceramici funzionali.
Utilizzo in materiali superconduttori e relativi esperimenti di ricerca scientifica.
Preparazione di film compositi multistrato o film sottili ottici per migliorare le proprietà dei materiali.

Domande frequenti

D1: Per quali processi di deposizione sono adatti i target di sputtering SrRuO3?
R1: Adatti a vari processi di fabbricazione di film sottili come sputtering con magnetrone a corrente continua (DC), sputtering RF e deposizione laser pulsata (PLD).

D2: Come deve essere conservato il bersaglio per mantenerne le prestazioni?
R2: Conservare in un ambiente asciutto, fresco e sigillato, evitando l’umidità e l’esposizione prolungata all’aria.

D3: È possibile personalizzare le dimensioni e la forma del bersaglio?
R3: Possiamo personalizzare bersagli rotondi, bersagli quadrati e specifiche di spessore in base alle esigenze del cliente per garantire la conformità con i diversi requisiti delle apparecchiature di deposizione.

Q4: Come garantite l’uniformità e la purezza del target?
A4: Ogni lotto di target viene sottoposto ad analisi della composizione chimica e a test di densità per garantire l’uniformità e l’elevata purezza, adatte alla ricerca scientifica e alle applicazioni industriali.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Possediamo una tecnologia matura per la preparazione di target SrRuO3 ad alta densità e un sistema di controllo qualità completo, fornendo target di sputtering personalizzabili, ad alta purezza e stabili, insieme a servizi tecnici professionali per garantire risultati affidabili nella ricerca scientifica e nella preparazione di film sottili industriali.