Titanato di stronzio (ossido di stronzio e titanio)

Target di sputtering in ossido di stronzio e titanio Panoramica

I target di sputtering
in ossido di stronzio e titanio
sono target ceramici ad alta purezza con eccellente stabilità termica, inerzia chimica e proprietà elettriche uniformi. Sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili elettronici, nei dispositivi a ossido funzionale e nella fabbricazione di rivestimenti ceramici ad alte prestazioni.

Offriamo target di sputtering SrTiO3 in varie specifiche, dimensioni e gradi di purezza per soddisfare le esigenze delle apparecchiature di sputtering DC, RF e magnetron. Contattateci
per richiedere campioni o servizi personalizzati.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza
Elevata densità, bassa porosità
Buona corrispondenza del coefficiente di espansione termica
Proprietà elettriche e ottiche uniformi
Adatto per sputtering DC/RF/magnetron
Elevata stabilità, lunga durata
Supporta l’incollaggio dei target
Dimensioni e forme personalizzabili
Buona uniformità dei lotti

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di stronzio e titanio

Deposizione di film sottili elettronici: utilizzati per preparare film sottili di SrTiO3 di alta qualità, migliorando le prestazioni e la stabilità dei dispositivi.
Dispositivi funzionali in ossido: possono essere utilizzati per la fabbricazione di film sottili di condensatori multistrato in ossido, resistori e materiali per sensori.
Rivestimenti ceramici: come materiale di rivestimento ceramico, migliora la resistenza meccanica e la stabilità termica.
Sviluppo di materiali scientifici: fornisce una base di deposizione uniforme e affidabile nella ricerca e nello sviluppo di materiali ferroelettrici, piezoelettrici e optoelettronici.

Domande frequenti

D1: I target di sputtering SrTiO3 possono essere utilizzati direttamente in tutti i tipi di apparecchiature di sputtering?
R1: Questo target è adatto per lo sputtering DC, RF e magnetron, ma è necessario selezionare le specifiche appropriate in base alla potenza dell’apparecchiatura e alle condizioni di vuoto.

D2: La densità e la porosità del bersaglio influenzano l’effetto di deposizione?
R2: Sì, un’elevata densità del bersaglio e una bassa porosità garantiscono una deposizione uniforme e una velocità di sputtering stabile, migliorando la qualità del film.

D3: Quali precauzioni devono essere prese durante il trasporto e lo stoccaggio del bersaglio?
R3: Deve essere conservato in un ambiente asciutto, al riparo dalla luce e resistente agli urti per evitare umidità e danni meccanici.

D4: Come garantire prestazioni costanti tra diversi lotti di target?
R4: Ogni lotto di target di sputtering viene sottoposto a rigorosi test di composizione chimica e densità per garantire dimensioni, densità e prestazioni di sputtering costanti.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Possediamo processi di produzione di target di sputtering SrTiO3 maturi e un rigoroso sistema di controllo qualità, fornendo target ad alta purezza, alta densità e stabili, insieme a servizi tecnici professionali. Ciò garantisce un’applicazione affidabile dei nostri materiali nella preparazione di film sottili e nello sviluppo di dispositivi funzionali, rendendoci il partner preferito per la ricerca e le applicazioni industriali.