Ossido rameoso (I)

Panoramica sui target di sputtering in ossido rameoso

I target di sputtering
in ossido rameoso
sono target in materiale funzionale ad alta purezza utilizzati principalmente nella deposizione di film sottili e nella produzione di dispositivi elettronici per garantire la stabilità del film e prestazioni affidabili.

Siamo in grado di fornire target di sputtering in ossido rameoso ad alta purezza in varie specifiche e dimensioni per soddisfare le esigenze dei clienti. Contattateci
per soluzioni personalizzate.

Caratteristiche principali del prodotto

Ossido di rame (I) ad alta purezza
Eccellente uniformità compositiva
Deposizione stabile del film
Basso contenuto di impurità
Compatibile con varie apparecchiature di sputtering
Proprietà elettriche e ottiche stabili
Supporta forme rotonde, quadrate e irregolari

Applicazioni dei target di sputtering in ossido rameoso

Preparazione di film sottili
per semiconduttori
e dispositivi elettronici: adatto per la preparazione e la deposizione di materiali semiconduttori di tipo P, garantendo le prestazioni elettroniche dei dispositivi e l’affidabilità a lungo termine. Dispositivi
optoelettronici
e di visualizzazione: utilizzato in film sottili conduttivi o funzionali per componenti optoelettronici e display, fornisce strati di film uniformi e prestazioni stabili.
Rivestimenti funzionali e film industriali: utilizzato per la deposizione di rivestimenti resistenti alla corrosione, conduttivi o con funzioni speciali, migliora le prestazioni e il valore aggiunto dei materiali industriali.

Domande frequenti

D1: L’ossido rameoso è un bersaglio di sputtering adatto per lo sputtering DC o RF?
A1: L’ossido rameoso è un materiale semiconduttore e lo sputtering RF è generalmente raccomandato per garantire una deposizione stabile e una qualità del film.

D2: La superficie del bersaglio richiede un trattamento speciale?
A2: I bersagli spediti sono solitamente lucidati e disossidati in fabbrica e possono essere utilizzati direttamente. È possibile eseguire un ulteriore pretrattamento in base alle esigenze del processo.

D3: L’ossido rameoso è un bersaglio fragile?
R3: Rispetto ai bersagli metallici, i bersagli in ossido rameoso sono più fragili. È necessario prestare attenzione per evitare danni da impatto durante la manipolazione e l’installazione.

D4: La forma del bersaglio può essere personalizzata in base alle dimensioni dell’apparecchiatura?
R4: Sì, offriamo forme rotonde, quadrate e speciali per adattarsi alle diverse apparecchiature di sputtering e ai requisiti di processo.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

L’analisi qualitativa fornisce target di sputtering in ossido rameoso affidabili e tracciabili per la ricerca scientifica, la preparazione di film sottili per dispositivi industriali ed elettronici, garantendo un’elevata qualità e una consistenza a lungo termine della deposizione del film.