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Rame Telluride

Chemical Name:
Rame Telluride
Formula:
Cu2Te
Product No.:
295200
CAS No.:
2019-52-2
EINECS No.:
234-646-1
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
295200ST001 Cu2Te 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
295200ST002 Cu2Te 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
295200ST001
Formula
Cu2Te
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
295200ST002
Formula
Cu2Te
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Panoramica sui target di sputtering in tellururo di rame

I target di sputtering
in tellururo di rame
sono target in materiale funzionale ad alta purezza adatti alla deposizione di film sottili e alla produzione di dispositivi optoelettronici e semiconduttori, che garantiscono l’uniformità del film e la stabilità delle prestazioni.

Siamo in grado di fornire target di sputtering in tellururo di rame in varie specifiche, elevata purezza e forme personalizzate in base alle attrezzature e ai requisiti di processo del cliente. Contattateci
per assistenza tecnica
e campioni.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza
Elevata uniformità compositiva
Prestazioni di deposizione del film stabili
Basso contenuto di impurità
Compatibile con varie attrezzature di sputtering
Conduttività e proprietà ottiche affidabili
Supporta forme circolari, quadrate e irregolari personalizzate e incollaggio

Applicazioni dei target di sputtering in tellururo di rame

Preparazione di film sottili
optoelettronici
: adatti per la deposizione di film sottili per celle solari e fotoconduttivi, forniscono strati di film uniformi e prestazioni optoelettroniche stabili. Produzione di dispositivi
a semiconduttori
: come target semiconduttore di tipo p, utilizzato nella ricerca e nello sviluppo di nuovi dispositivi elettronici e sistemi di materiali funzionali, garantisce prestazioni stabili dei dispositivi.
Rivestimenti funzionali e film industriali: può essere utilizzato per la deposizione di rivestimenti conduttivi, resistenti alla corrosione e con funzioni speciali, migliorando la durata e le prestazioni dei materiali industriali.

Domande frequenti

D1: Quale metodo di sputtering è adatto per i target in tellururo di rame?
R1: Il tellururo di rame è un materiale semiconduttore e, in genere, si consiglia lo sputtering RF per garantire un film uniforme e una deposizione stabile.

D2: Il bersaglio richiede un pretrattamento?
R2: I bersagli sono lucidati e disossidati in fabbrica e possono essere utilizzati direttamente. È possibile eseguire un pretrattamento aggiuntivo in base alle esigenze del processo.

D3: I bersagli sono fragili durante la polverizzazione?
R3: Rispetto ai bersagli metallici, i bersagli in tellururo di rame sono più fragili. Evitare collisioni durante la manipolazione e l’installazione.

D4: È possibile personalizzare le dimensioni e le forme dei target?
A4: Sì, offriamo target rotondi, quadrati e di forma personalizzata per soddisfare le diverse esigenze di attrezzature e processi.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla produzione e fornitura di target di sputtering in materiali funzionali ad alta purezza. Dalla selezione delle materie prime al controllo dei lotti, controlliamo rigorosamente il processo per garantire che i target in tellururo di rame abbiano prestazioni stabili e affidabili nella ricerca scientifica, nell’industria e nella preparazione di film sottili per dispositivi optoelettronici, e forniamo ai clienti materiali tracciabili di alta qualità.

Formula chimica: Cu₂Te
Peso molecolare: 223,30 g/mol
Aspetto: Materiale bersaglio denso da nero a grigio scuro
Densità: 7,35 g/cm³
Punto di fusione: 1.065 °C
Struttura cristallina: Esagonale

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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