Lega di rame e cromo

Target di sputtering in lega di rame-cromo Panoramica

I target di sputtering
in rame-cromo
sono target in lega che bilanciano conduttività e resistenza al calore, utilizzati principalmente nei processi di deposizione fisica da vapore per dispositivi elettronici e film sottili funzionali.

Offriamo target di sputtering con diversi rapporti rame-cromo e in varie dimensioni, supportando la lavorazione personalizzata e la collaborazione tecnica
. Contattateci
per soluzioni dettagliate.

Caratteristiche principali del prodotto

Distribuzione uniforme della composizione della lega
Conduttività stabile
Resistenza alle alte temperature e alla polverizzazione
Elevata densità superficiale del bersaglio
Buona adesione del film
Compatibile con vari sistemi di polverizzazione
Supporta forme rotonde, rettangolari e irregolari

Applicazioni dei bersagli di polverizzazione in rame-cromo

Interconnessioni
di semiconduttori
e film sottili funzionali: utilizzati per depositare film metallici conduttivi o funzionali per soddisfare i requisiti di stabilità e uniformità dei circuiti integrati.
Contatti elettrici e rivestimenti resistenti all’usura: utilizzati nei materiali di contatto elettrico e nei film resistenti all’usura, bilanciando conduttività e durata.
Protezione industriale e rivestimenti funzionali: adatti per la preparazione di film sottili funzionali resistenti al calore, alla corrosione o compositi, migliorando le proprietà superficiali dei componenti industriali.
Ricerca scientifica e lavorazione di film sottili: ampiamente utilizzati nello studio di nuovi film sottili in lega e proprietà dei materiali, garantendo la ripetibilità sperimentale e la controllabilità del film.

Domande frequenti

D1: Quali sono i vantaggi dei target in CuCr rispetto ai target in rame puro?
R1: L’aggiunta di cromo migliora significativamente la resistenza al calore e la capacità anti-migrazione, rendendo il film più stabile in condizioni di alta temperatura.

D2: Questo bersaglio in lega è adatto per la polverizzazione DC o RF?
R2: Grazie alla buona conduttività della lega, la polverizzazione DC è solitamente sufficiente per ottenere risultati di deposizione stabili.

D3: Il rapporto rame-cromo influisce sulle prestazioni del film?
R3: Sì, rapporti diversi tra i componenti influenzano la resistività, la durezza e la resistenza al calore del film. Il rapporto appropriato deve essere selezionato in base all’applicazione.

D4: Il bersaglio richiede un pretrattamento prima dell’uso?
A4: In genere non è necessario alcun trattamento complesso; è sufficiente una semplice pulizia. Per il primo utilizzo, è possibile eseguire un breve pre-sputtering per stabilizzare la superficie del bersaglio.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Da tempo ci concentriamo sulla produzione e sul controllo qualità dei target di sputtering in lega. Dalla proporzione delle materie prime ai processi di densificazione dei target, gestiamo rigorosamente tutti gli aspetti per garantire che i nostri target in lega di rame e cromo soddisfino le esigenze della ricerca scientifica e delle applicazioni industriali in termini di consistenza del film, stabilità e affidabilità dei lotti.