Lega rame-indio

Panoramica sui target di sputtering in rame-indio

I target di sputtering
in rame-indio
sono utilizzati principalmente per preparare film sottili funzionali con composizione regolabile e hanno un valore applicativo significativo nella ricerca sui materiali optoelettronici e sui film sottili.

Siamo in grado di fornire target con vari rapporti di composizione e specifiche per soddisfare i requisiti delle apparecchiature e dei processi, supportando la lavorazione personalizzata. Contattateci
per
trovare la soluzione più adatta alle vostre esigenze.

Caratteristiche principali del prodotto

Distribuzione uniforme della composizione della lega
Elevata densità del target
Velocità di sputtering stabile
Buona ripetibilità del film
Adatto a vari sistemi di sputtering sottovuoto
Opzioni di incollaggio e backplane opzionali
Facilita il controllo preciso della composizione del film sottile

Applicazioni dei target di sputtering in rame-indio

Ricerca sull’energia solare
a film sottile: nella preparazione degli strati assorbenti correlati, questo target viene spesso utilizzato per depositare film sottili di metallo precursore, fornendo una base stabile per i successivi processi di reazione. Film sottili funzionali
optoelettronici
: attraverso la polverizzazione è possibile ottenere film sottili di lega uniformi, adatti alla ricerca sulla modulazione delle prestazioni optoelettroniche e sull’ottimizzazione strutturale. Sviluppo di materiali
semiconduttori
: questo materiale può essere utilizzato per l’esplorazione di processi di nuovi sistemi semiconduttori, contribuendo a verificare l’impatto dei diversi rapporti tra gli elementi sulle prestazioni elettriche.

Domande frequenti

D1: Il rapporto rame-indio può essere regolato in base alle esigenze?
A1: Sì, la composizione del target può essere personalizzata in base all’applicazione specifica.

D2: Questo target è più adatto per la polverizzazione DC o RF?
A2: È generalmente compatibile con diversi metodi di polverizzazione; la scelta specifica dipende dalla configurazione dell’attrezzatura e dai parametri di processo.

D3: La composizione del film è stabile durante lo sputtering?
R3: In condizioni di processo ragionevoli, la composizione del target ha una buona consistenza, che aiuta a ottenere film stabili.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante il trasporto e lo stoccaggio del target?
R4: Si consiglia di utilizzare imballaggi sottovuoto o con gas inerte per evitare l’esposizione prolungata ad ambienti umidi.

Rapporto

Ogni lotto è fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella preparazione stabile e nel controllo di qualità dei target di sputtering in lega. Grazie alla nostra consolidata esperienza nella progettazione e nella lavorazione delle composizioni, siamo in grado di fornire ai clienti materiali affidabili e uniformi, capacità di personalizzazione flessibili e un supporto continuo e stabile nella consegna, contribuendo al progresso efficiente della ricerca scientifica e dei progetti industriali.