Lega di rame e silicio

Target di sputtering in lega di rame e silicio Panoramica

I target di sputtering in lega
di rame e silicio
sono target di rivestimento in lega di rame e silicio utilizzati principalmente per il deposito di film funzionali ad alte prestazioni su componenti microelettronici e resistenti all’usura.

Produciamo target in lega con composizione precisa e microstruttura uniforme. Contattateci
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dettagliata e informazioni sui campioni.

Caratteristiche principali del prodotto

Forma strati di siliciuro a bassa resistenza
Rivestimenti densi e fortemente legati
Eccellente resistenza all’usura e all’ossidazione
Struttura del target uniforme e stabile

Applicazioni dei target di sputtering in lega di rame e silicio

Interconnessioni microelettroniche: fungono da materiale di contatto o strato barriera di diffusione nei dispositivi a semiconduttori, garantendo connessioni circuitali stabili e affidabili.
Rivestimenti protettivi resistenti all’usura: applicati agli utensili da taglio e ai componenti meccanici critici per migliorare significativamente la resistenza all’usura e all’ossidazione ad alta temperatura.
Fotovoltaico e display: funge da materiale per elettrodi per celle solari
a film sottile o per il deposito di film conduttivi in alcune tecnologie di visualizzazione.
Pellicole resistive di precisione: utilizzati per fabbricare elementi resistivi a film sottile con eccellente stabilità termica e alta precisione.

Domande frequenti

D1: Quali sono i componenti principali del film formato dai target di rame-silicio?
R1: Principalmente composti di rame-silicio a bassa resistenza (siliciuri) formati attraverso trattamenti termici successivi o reazioni in situ, che presentano eccellente conduttività e stabilità termica.

D2: In che modo il contenuto di silicio influisce sulle proprietà del film?
R2: Il contenuto di silicio influenza direttamente il tipo di siliciuro formato, nonché la resistività, la durezza e la stabilità termica del film. È necessaria una formulazione precisa in base agli obiettivi specifici dell’applicazione.

D3: Qual è la conduttività di questo film?
R3: Il film di composto di rame-silicio risultante presenta una buona conduttività con una resistività compresa tra i livelli metallici e quelli dei semiconduttori, rendendolo adatto a specifiche applicazioni elettroniche.

Q4: Quali sono i principali vantaggi rispetto ai target in rame puro?
A4: I vantaggi principali risiedono nella capacità del silicio di sopprimere efficacemente la diffusione degli atomi di rame, migliorare la stabilità termica e la resistenza all’ossidazione e consentire la formazione di siliciuri funzionali attraverso reazioni chimiche.

Report

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella ricerca e sviluppo e nella produzione di target in lega ad alte prestazioni. Grazie alla nostra profonda conoscenza della scienza dei materiali e alle nostre capacità di produzione di precisione, garantiamo prestazioni eccezionali dei prodotti e uniformità tra i lotti. Impegnati a fornire soluzioni tecniche professionali e un’affidabile garanzia di fornitura, siamo il vostro partner di fiducia.