Lega di nichel e manganese

Target di sputtering in lega di nichel-manganese Panoramica

I target di sputtering in lega
di nichel-manganese
sono materiali in lega di nichel-manganese utilizzati nei processi di deposizione di film sottili, comunemente impiegati nella preparazione di film sottili magnetici e strati di leghe funzionali.

Offriamo target di sputtering NiMn con rapporti di composizione controllabili e strutture dense, e supportiamo la personalizzazione
in diverse dimensioni. Contattateci
per informazioni tecniche dettagliate.

Caratteristiche principali del prodotto

Rapporto nichel-manganese regolabile
Microstruttura uniforme della lega
Composizione stabile del film
Adatto per processi di sputtering con magnetron
Backplane e incollaggio personalizzabili
Elevato tasso di utilizzo del target
Buona ripetibilità del processo

Applicazioni dei target di sputtering in lega di nichel-manganese

Film sottili magnetici funzionali: adatti alla preparazione di film sottili in lega con risposte magnetiche specifiche, in grado di soddisfare le esigenze delle applicazioni di modulazione delle proprietà magnetiche.
Microelettronica e produzione di dispositivi: utilizzati per formare strati di lega funzionali stabili in alcuni dispositivi microelettronici, dove è richiesta un’elevata consistenza del film.
Ricerca sui materiali elettromagnetici: possono fungere da materiale importante per lo studio della modulazione delle proprietà elettromagnetiche e per l’esplorazione di nuove strutture di film sottili in lega.
Ricerca e convalida dei processi: adatto per l’uso sperimentale da parte di istituti di ricerca e dipartimenti di ricerca e sviluppo nell’ottimizzazione dei parametri di processo, nella verifica del rapporto di composizione e nella ricerca sulle prestazioni dei materiali.

Domande frequenti

D1: A quale tipo di apparecchiatura di sputtering è adatto il target di sputtering NiMn?
R1: Può essere utilizzato nelle comuni apparecchiature di sputtering magnetron. La compatibilità specifica deve essere confermata in base alle specifiche dell’apparecchiatura.

D2: Il rapporto di composizione del target può essere personalizzato?
A2: Sì, è possibile fornire soluzioni target con diversi rapporti nichel-manganese in base agli obiettivi di prestazione del film sottile.

D3: Il target è soggetto a ossidazione durante l’uso?
A3: In condizioni di stoccaggio e di processo standard, la superficie del target è stabile e il rischio di ossidazione è controllabile.

D4: Supporta dimensioni ridotte o specifiche sperimentali?
A4: Sì, è adatto a vari requisiti di specifica nelle fasi di ricerca e su scala pilota.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Ci concentriamo sulla lavorazione e sul controllo qualità dei target di sputtering in lega, ponendo l’accento sull’uniformità della composizione e sulla stabilità del processo, e siamo in grado di fornire ai clienti soluzioni affidabili e sostenibili per i materiali di deposizione di film sottili.