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Lega di nichel-terbio

Chemical Name:
Lega di nichel-terbio
Formula:
NiTb
Product No.:
286500
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
286500ST001 NiTb 99.9% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
286500ST002 NiTb 99.9% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
286500ST001
Formula
NiTb
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
286500ST002
Formula
NiTb
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Panoramica dei target di sputtering in lega di nichel e terbio

La lega di nichel terbio sono bersagli in lega di nichel-terbio di elevata purezza, adatti alla preparazione di dispositivi semiconduttori, film sottili magnetici, rivestimenti conduttivi e film sottili per la ricerca scientifica.

Forniamo bersagli sputtering NiTb densi, uniformi e di elevata purezza, che possono essere personalizzati per soddisfare i diversi requisiti di processo. Si prega di contattateci per informazioni dettagliate informazioni tecniche informazioni tecniche dettagliate.

Caratteristiche principali del prodotto

Lega di nichel-terbio di elevata purezza
Bersaglio uniforme e denso
Eccellenti proprietà magnetiche
Buona conducibilità elettrica
Forte stabilità termica
Consistenza affidabile dei lotti
Supporta l’incollaggio e la personalizzazione del backplane

Applicazioni dei target di sputtering in lega di nichel terbio

Semiconduttori Preparazione dei dispositivi: Adatti alla deposizione di film sottili in transistor, circuiti integrati, ecc. per migliorare le prestazioni e la stabilità dei dispositivi.
Film sottili magnetici: Utilizzati per film sottili funzionali come dispositivi di memorizzazione magnetica e sensori magnetici, per migliorare le proprietà magnetiche e la stabilità dei dati.
Rivestimenti conduttivi: Possono essere utilizzati per la preparazione di film conduttivi e rivestimenti funzionali, migliorando la conduttività e la durata dei dispositivi elettronici.
Ricerca scientifica e sviluppo di processi: Adatto agli istituti di ricerca per condurre test sulle prestazioni dei materiali NiTb ed esperimenti di sviluppo di nuovi processi.

Domande frequenti

Q1: Quali sono le dimensioni e le forme dei target di sputtering NiTb disponibili?
A1: I target di diverse dimensioni e forme possono essere forniti in base alle attrezzature di sputtering e ai requisiti di processo.

Q2: Quanto sono stabili i target durante la deposizione del film sottile?
A2: I target NiTb di elevata purezza hanno una buona stabilità termica, che garantisce una deposizione uniforme del film sottile.

D3: Per quali tipi di film sottili sono adatti i target?
A3: Sono adatti per film sottili di semiconduttori, film sottili magnetici e film conduttivi.

Q4: Come viene garantita la costanza dei lotti dei target?
A4: Grazie a rigorosi processi di produzione e a test di qualità, garantiamo una composizione e prestazioni costanti.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporto di ispezione delle dimensioni
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella R&S e nella fornitura di target di sputtering NiTb di elevata purezza, enfatizzando i vantaggi di target uniformi e densi, stabilità chimica e proprietà magnetiche e conduttive, fornendo un supporto materiale affidabile per la deposizione di dispositivi a semiconduttore, film sottili magnetici e film sottili scientifici.

Formula molecolare: NiTb
Aspetto: Lucentezza metallica, solitamente grigio-argento

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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