| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 491600ST001 | In2S3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 491600ST002 | In2S3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST003 | In2S3 | 99.999% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST004 | In2S3 | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST005 | In2S3 | 99.999% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST006 | In2S3 | 99.999% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
Il solfuro di indio (In2S3) è un composto di elevata purezza ampiamente utilizzato nelle celle solari a film sottile, nell’optoelettronica e nei dispositivi a semiconduttore. Con eccellenti proprietà ottiche ed elettriche, i target di sputtering In2S3 sono ideali per produrre film sottili uniformi e ad alte prestazioni. I nostri target garantiscono una purezza del 99,999%, un’elevata densità e tassi di sputtering stabili sia per la ricerca che per le applicazioni industriali.
Forniamo bersagli sputtering di alta qualità in solfuro di indio (In₂S₃) con dimensioni e opzioni di incollaggio personalizzabili. Contattateci per prezzi e supporto tecnico.
Purezza superiore: la purezza del 99,999% (5N) garantisce una contaminazione minima e una qualità stabile del film sottile.
Alta densità: Ottimizzato per uno sputtering uniforme e una deposizione riproducibile.
Personalizzato Dimensioni: Disponibile in forme circolari, planari o rettangolari, con dimensioni personalizzate per il vostro sistema.
Opzioni della piastra di supporto: Incollaggio opzionale per migliorare la conduttività termica e la durata dell’obiettivo.
Prestazioni stabili: Fornisce tassi di deposizione costanti, adesione eccellente e film sottili di alta qualità.
Celle solari a film sottile: Utilizzati come strato tampone o assorbente nelle celle solari a film sottile CIGS e di altro tipo.
Dispositivi optoelettronici Dispositivi optoelettronici: Adatto per fotorivelatori, strati conduttivi trasparenti e dispositivi a infrarossi.
Semiconduttori: Utilizzati per transistor a film sottile ad alte prestazioni, sensori e componenti elettronici.
Ricerca e sviluppo: Sostiene gli studi sulla scienza dei materiali e la R&S sull’elettronica avanzata.
Materiali energetici: Applicati nell’immagazzinamento dell’energia e nei dispositivi a film sottile fotocatalitici.
Competenza nel settore: Specializzati in target di sputtering avanzati per semiconduttori, optoelettronica e applicazioni a film sottile.
Soluzioni personalizzate: Composizione, dimensioni e incollaggio flessibili incollaggio per soddisfare le esigenze dei clienti.
Qualità affidabile: Controllo rigoroso di purezza, densità e microstruttura per risultati riproducibili.
Consegna globale: Spedizione rapida e sicura in tutto il mondo con imballaggio protettivo.
Assistenza tecnica: Un team di professionisti fornisce una documentazione completa e una consulenza tecnica.
F1. Qual è la purezza dei vostri target di sputtering al solfuro di indio?
A1. I nostri target sputtering hanno una purezza del 99,99% (4N), adatta alla deposizione di film sottili di alta precisione.
F2. Quali forme e dimensioni sono disponibili per i target In2S3?
A2. Sono disponibili target circolari, planari e rettangolari, con dimensioni personalizzate per adattarsi a vari sistemi di sputtering.
F3. Fornite l’incollaggio della piastra di supporto per i target In2S3?
A3. Sì, possiamo incollare i target a piastre di supporto adeguate per migliorare la gestione termica e prolungare la durata del target.
F4. Quali industrie utilizzano i target di sputtering al solfuro di indio?
A4. Sono ampiamente utilizzati nelle celle solari a film sottile, nell’optoelettronica, nei dispositivi a semiconduttore e nella R&S avanzata.
Ogni lotto di target sputtering In2S3 viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza (MSDS)
I rapporti di test di terze parti sono disponibili su richiesta per soddisfare gli standard industriali e di ricerca.
Formula chimica: In2S3
Peso molecolare: 325,82 g/mol
Densità: 4,85 g/cm³
Punto di fusione: > 1050°C
Purezza target: 99,99%-99,9995% (personalizzabile)
Aspetto: Nero o grigio scuro solido
Forma: Rotonda, rettangolare o dimensioni personalizzate
Struttura cristallina: Cubica
Metodo di sputtering: Sputtering Magnetron DC (DC)/RF Sputtering (RF)
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
Se hai bisogno di un servizio, contattaci