Indio metallico

Panoramica dei target di sputtering di indio metallo

L’indio (In) sono materiali metallici di elevata purezza ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili, nell’optoelettronica e nelle applicazioni avanzate dei semiconduttori. Grazie all’eccellente duttilità, al basso punto di fusione e all’eccezionale conduttività, i target di indio sono la scelta preferita per i processi PVD, in particolare per i rivestimenti conduttivi trasparenti, i film di saldatura a bassa temperatura e la fabbricazione di dispositivi microelettronici.

I nostri target di sputtering di indio metallico presentano una purezza compresa tra il 99,99% (4N) e il 99,999% (5N), un’elevata densità e una microstruttura uniforme, garantendo prestazioni costanti sia nella produzione industriale che nella ricerca scientifica.

Caratteristiche principali del prodotto del target di sputtering all’indio

Elevata purezza: 99,99% (4N)-99,999% (5N) per una qualità stabile del film sottile e impurità minime.
Eccellente lavorabilità: Metallo morbido e duttile con affidabili proprietà di formazione di film.
Densità uniforme: Ottimizzata per garantire velocità di sputtering costanti e spessore uniforme del rivestimento.
Ampie opzioni dimensionali: Disponibile in forme planari, rotanti e personalizzate.
Fornitura stabile: Adatto per la produzione di grandi volumi e per la ricerca di laboratorio.

Applicazioni del target In Sputtering

Rivestimenti conduttivi trasparenti: Essenziali per pannelli di visualizzazione, OLED, LCD e celle solari.
Semiconduttori Fabbricazione: Utilizzato nella saldatura a bassa temperatura e nei materiali di interconnessione.
Optoelettronica: Applicata nei transistor a film sottile, nei fotorivelatori e nei dispositivi a infrarossi.
Materiali energetici: Adatto per la ricerca e sviluppo di elettrodi e batterie a film sottile.
Ricerca scientifica: Ampiamente utilizzato nelle università e nei laboratori per la scienza dei materiali.

Perché collaborare con noi?

Competenza sui materiali: Anni di esperienza nei target metallici per sputtering.
Personalizzato Soluzioni personalizzate: Dimensioni, forme e purezza flessibili per soddisfare i requisiti del progetto.
Controllo qualità: Analisi delle impurità ICP-MS per ogni lotto di produzione.
Logistica affidabile: Imballaggio sicuro e consegna puntuale in tutto il mondo.
Assistenza tecnica: Team di professionisti per assistervi nello sviluppo dei vostri film sottili.

Domande frequenti

F1. Quali sono i vantaggi dei target di sputtering di indio rispetto ai pellet o ai fili di indio?
A1. I target garantiscono una maggiore densità, velocità di sputtering uniforme e una migliore qualità del film sottile.

F2. Quali sono i gradi di purezza disponibili?
A2. Forniamo purezza 4N (99,99%) e 5N (99,999%), con gradi personalizzati disponibili su richiesta.

F3. Gli obiettivi di indio possono essere incollati?
A3. Sì, i target di indio possono essere incollati a piastre di supporto (rame, molibdeno, titanio) per una maggiore stabilità.

F4. Come vengono confezionati i target di sputtering di indio metallico?
A4. I target sono sigillati sotto vuoto con imbottitura protettiva e spediti in cartoni rigidi sicuri per l’esportazione.

F5. Quali sono i settori industriali che utilizzano principalmente i target per lo sputtering di indio metallo?
A5. Sono ampiamente applicati nei settori della tecnologia dei display, dell’optoelettronica, dei semiconduttori e delle energie rinnovabili.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta