L’ossido di indio (In2O3) sono materiali ceramici di elevata purezza ampiamente utilizzati nella fabbricazione di target sputtering, film conduttivi trasparenti e applicazioni avanzate di semiconduttori. Grazie alle proprietà chimiche stabili, all’eccellente trasparenza ottica e alle caratteristiche elettriche affidabili, i granuli di In2O3 sono la materia prima preferita per i processi PVD, la deposizione di film sottili e la ricerca.
I nostri granuli di ossido di indio presentano una purezza del 99,99% (4N), un’elevata densità e una morfologia uniforme delle particelle, garantendo prestazioni costanti per la produzione industriale e la ricerca accademica.
Elevata purezza: il 99,99% (4N) garantisce bassi livelli di impurità e una crescita stabile del film.
Dimensioni controllate dei granuli: gamma standard da 1 a 6 mm, con possibilità di dimensioni personalizzate.
Eccellenti proprietà ottiche: Alta trasmissione nella gamma del visibile.
Struttura chimica stabile: Resistente all’ossidazione e all’umidità in condizioni di stoccaggio normale.
Ampia compatibilità: Adatto per bersagli di sputtering, evaporazione e sistemi di rivestimento.
Fabbricazione di bersagli sputtering: Materia prima per i target di sputtering In2O3.
Film conduttivi trasparenti: Utilizzati in pannelli di visualizzazione, celle solari e schermi tattili.
Optoelettronica: Applicato nei transistor a film sottile, nei fotorivelatori e nei sensori.
Materiali energetici: Adatti allo sviluppo di film sottili elettrodici e catalitici.
Materiali per R&S: Ampiamente utilizzati nei laboratori di ricerca sui semiconduttori e sulla scienza dei materiali.
Competenza sui materiali: Decenni di esperienza nei materiali semiconduttori ossidati.
Granuli personalizzati: Opzioni flessibili di dimensioni e purezza dei granuli.
Garanzia di qualità: Rigoroso controllo delle impurità ICP-MS per ogni lotto.
Fornitura affidabile: Capacità produttiva stabile e consegne globali puntuali.
Orientamento alla collaborazione: Team tecnico pronto a supportare i vostri progetti con soluzioni su misura.
F1. Quali sono i vantaggi dei granuli di In2O3 rispetto alla polvere?
A1. I granuli riducono la contaminazione da polvere, sono più facili da maneggiare e più adatti alla produzione di target di sputtering.
F2. Offrite materiali di ossido di indio sia di dimensioni nano che bulk?
A2. Sì, forniamo polveri (scala nano/micron) e granuli (1-6 mm), a seconda delle esigenze applicative.
F3. I granuli di ossido di indio possono essere utilizzati direttamente nei sistemi PVD?
A3. Sì, possono essere applicati nei processi di evaporazione e sputtering, o ulteriormente trasformati in target legati.
F4. Come si confezionano i granuli di ossido di indio?
A4. I granuli sono sigillati sotto vuoto in sacchetti o bottiglie antistatiche, con un imballaggio esterno protettivo.
F5. Quali industrie utilizzano principalmente i granuli di In2O3?
A5. Sono ampiamente utilizzati nella produzione di display, nell’optoelettronica, nell’energia solare e nella ricerca e sviluppo di semiconduttori.
Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)
Scheda tecnica (TDS)
Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS)
I rapporti di analisi di terze parti sono disponibili su richiesta.
Formula molecolare: In₂O₃
Peso molecolare: 277,64 g/mol
Aspetto: Granuli di colore da bianco-grigio a giallo chiaro
Densità: 7.18 g/cm³
Punto di fusione: 1910 °C
Punto di ebollizione: ~2000 °C
Struttura cristallina: Cubica
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e inscatolati per evitare contaminazioni e umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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