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Tellurio metallico

Chemical Name:
Tellurio metallico
Formula:
Te
Product No.:
5200
CAS No.:
13494-80-9
EINECS No.:
236-813-4
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
5200ST001 Te 99.999% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
5200ST002 Te 99.999% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
5200ST003 Te 99.999% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
5200ST004 Te 99.999% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
5200ST001
Formula
Te
Purity
99.999%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
5200ST002
Formula
Te
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
5200ST003
Formula
Te
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
5200ST004
Formula
Te
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Obiettivi di sputtering al tellurio metallico Panoramica

I bersagli sputtering in Tellurio sono materiali metallici ad alte prestazioni progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Con una purezza fino al 99,999%, offrono un’eccellente densità e una buona conduttività, garantendo una deposizione uniforme di film sottili, una forte adesione e livelli di impurità estremamente bassi. Sono ampiamente utilizzati nei dispositivi optoelettronici, nei semiconduttori e nei film sottili funzionali.

Offriamo target di sputtering metallici al tellurio in una varietà di dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, che possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. Inoltre, forniamo un’assistenza tecnica supporto tecnico per garantire che le applicazioni di produzione siano sempre aggiornate.

Caratteristiche principali del prodotto

Purezza: 99,999%
L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile
Eccellente conduttività e compatibilità di processo
Dimensioni e forme personalizzabili dimensioni e forme personalizzabili
Adatto per la produzione di dispositivi optoelettronici e semiconduttori, nonché per la preparazione di film sottili funzionali specializzati.

Applicazioni del target di sputtering metallico al tellurio

Semiconduttori: Utilizzato per la fabbricazione di strati attivi e film sottili funzionali per dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni.
Optoelettronica: Deposizione di film sottili funzionali in sensori ottici, rivelatori a infrarossi e guide d’onda ottiche.
Fotovoltaico: utilizzato come materiale dello strato attivo in celle solari speciali per migliorare l’efficienza di conversione fotoelettrica. Film funzionali: Adatti alla fabbricazione di film riflettenti all’infrarosso, ottici non lineari e di modulazione acusto-ottica.

Rapporti

Forniamo un dettagliato Certificato di analisi (COA)(COA), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i relativi rapporti di conformità per ogni lotto di target di sputtering Te. Supportiamo anche servizi di test di terze parti per garantire una qualità del prodotto costante e affidabile.

Formula molecolare: Te
Peso atomico: 127,6 g/mol
Aspetto: Bersaglio metallico grigio-argento con superficie liscia e densa
Densità: Circa 6,24 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: 449,5°C
Struttura cristallina: Esagonale

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e inscatolati per evitare contaminazioni e umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 5200ST Categoria Marchio:

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