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Ossido di bismuto

Chemical Name:
Ossido di bismuto
Formula:
Bi2O3
Product No.:
830800
CAS No.:
1304-76-3
EINECS No.:
215-134-7
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
830800ST001 Bi2O3 99.99% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
830800ST002 Bi2O3 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
830800ST003 Bi2O3 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
830800ST004 Bi2O3 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
830800ST005 Bi2O3 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
830800ST006 Bi2O3 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
830800ST007 Bi2O3 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
830800ST001
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
830800ST002
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
830800ST003
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
830800ST004
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
830800ST005
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
830800ST006
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
830800ST007
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Panoramica dei target di sputtering all’ossido di bismuto

Ossido di bismuto I target sputtering sono materiali ad alte prestazioni progettati per i processi di deposizione di film sottili. Hanno un’eccellente stabilità chimica e un’elevata conduttività e sono ampiamente utilizzati in optoelettronica, termoelettrica e catalisi. La loro elevata purezza e stabilità li rende ideali per la preparazione di film sottili di alta qualità.

Offriamo target di ossido di bismuto in una varietà di forme e dimensioni, tra cui rotonde, rettangolari e altre forme personalizzate. Forniamo anche un servizio completo di assistenza post-vendita se avete domande sull’uso, non esitate a contattarci contattarci.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,99%
Eccellente conduttività: Adatto per la produzione di dispositivi elettronici e optoelettronici
Elevata stabilità: Stabile in ambienti ad alta temperatura e altamente corrosivi
Imballaggio personalizzabile
Dimensioni e forma personalizzabili: Soddisfare i requisiti di processo specifici

Applicazioni del target sputtering all’ossido di bismuto

Semiconduttori: L’ossido di bismuto è ampiamente utilizzato nei dispositivi a semiconduttore come componente chiave, ad esempio come materiale per elettrodi e strati dielettrici.
Materiali optoelettronici: Utilizzato in fotorivelatori, celle fotovoltaiche e altre applicazioni optoelettroniche, con eccellenti caratteristiche di assorbimento della luce.
Applicazioni termoelettriche: Come materiale termoelettrico, può essere utilizzato nella generazione di energia termoelettrica e nelle apparecchiature di refrigerazione per fornire eccellenti prestazioni di conversione termoelettrica.
Catalizzatore: Utilizzato come catalizzatore nella protezione ambientale e nello sviluppo dell’energia verde, in particolare nelle tecnologie di purificazione dei gas e di trattamento delle acque.

Rapporti

Forniamo certificati di analisi (COA), schede di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti per ogni spedizione. Inoltre, supportiamo anche test di terze parti per migliorare la garanzia di qualità.

Formula molecolare: Bi₂O₃
Peso molecolare: 465,97 g/mol
Aspetto: Polvere di colore giallo-arancio
Densità: Circa 8,9 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 825 °C
Struttura cristallina: Sistema tetragonale (α-Bi₂O₃)

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 830800ST Categoria Marchio:

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