Tantalio metallico

Panoramica dell’anello metallico di tantalio

Itargetanulariin tantalio metallico (Ta) sono materiali per sputtering ad alte prestazioni noti per l’eccellente resistenza alla corrosione, l’elevato punto di fusione (3017°C) e l’eccezionale uniformità del film. Questi target sono ampiamente utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori, rivestimenti ottici e deposizione di film sottili per dispositivi elettronici e fotonici di fascia alta.

Forniamo obiettivi ad anello di tantalio di elevata purezza 99,99% con dimensioni personalizzate e controllo preciso della microstruttura per garantire prestazioni di sputtering costanti e una lunga durata dell’obiettivo.

Caratteristiche del prodotto

Eccezionale uniformità del film: La microstruttura a grana fine garantisce tassi di sputtering omogenei.

Elevata stabilità termica e chimica: Stabile in ambienti ad alta temperatura e sotto vuoto.

Basso contenuto di ossigeno e impurità: Migliora l’adesione e riduce i difetti del film.

Supporto tecnico personalizzato: Progetti di target su misura per i sistemi di sputtering magnetronico.

Lunga durata: La densità e la resistenza meccanica ottimizzate riducono al minimo l’erosione e la fessurazione.

Applicazioni di Obiettivo ad anello in metallo tantalio

Industriadei semiconduttori: Barriere di diffusione, elettrodi di condensatori e strati di interconnessione.

Optoelettronica: Rivestimenti ottici per film ad alta riflettività e anticorrosione.

Aerospaziale ed energetico: Rivestimenti funzionali per componenti strutturali ad alte prestazioni.

Ricerca e sviluppo: Ricerca sui materiali avanzati, sintesi di film nanostrutturati.

Rapporti

Ogni lotto di bersagli anulari al tantalio di ULPMAT viene fornito con:

Certificato di analisi (COA)

Dati di ispezione della granulometria e della densità

Risultati dei test di finitura superficiale e planarità

Opzionale: Analisi delle impurità in traccia GDMS e test di uniformità del film