Il target di tellururo di tantalio è un materiale bidimensionale ad alte prestazioni adatto ad applicazioni elettroniche e optoelettroniche all’avanguardia. Si tratta di un ditelluride metallico di transizione con una struttura stratificata unica ed è ampiamente utilizzato nella ricerca e nella produzione di nuovi dispositivi elettronici, fotorivelatori e dispositivi di accumulo di energia. Il materiale ha attirato molta attenzione per la sua anisotropia, l’elevata mobilità dei portatori e l’eccellente capacità di formare film.
Forniamo target di sputtering al tellururo di tantalio di elevata purezza e densità, che possono essere utilizzati per una varietà di tecnologie di deposizione di film sottili (come sputtering magnetronico, evaporazione a fascio di elettroni, ecc.) e supportano una varietà di specifiche personalizzate per soddisfare le diverse esigenze dello sviluppo di laboratorio e della produzione industriale di massa.
Purezza: 99,9%
Alta densità, superficie liscia
Struttura cristallina stratificata, adatta alla formazione di film sottili bidimensionali
Dimensioni e forma personalizzabili su richiesta (rotonde, rettangolari, ecc.)
Adatto per processi di deposizione sotto alto vuoto e in atmosfera inerte
Dispositivi elettronici: può essere utilizzato per dispositivi semiconduttori bidimensionali come i transistor a effetto di campo (FET) di nuova generazione.
Fotorivelatori: Con capacità di risposta ad ampia banda, adatti a dispositivi di imaging nell’infrarosso e nell’ultravioletto.
Materiali per l’accumulo di energia: utilizzati nelle batterie agli ioni di litio/sodio e nei supercondensatori per la ricerca sui materiali elettrodici.
Ricerca sui materiali topologici: grazie alla sua struttura a bande unica, è un materiale importante per lo studio dell’elettronica di spin e degli isolanti topologici.
Ogni lotto di target di tellururo di tantalio viene fornito con un certificato di analisi (COA), scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i necessari rapporti di prova. In base alle esigenze del cliente, può essere fornito anche un supporto di test di terze parti per garantire che la composizione, la purezza e la stabilità dei target di sputtering soddisfino le esigenze del progetto.
Formula molecolare: TaTe₂
Peso molecolare: 441,58 g/mol
Aspetto: Bersaglio ceramico grigio-nero con lucentezza metallica, superficie densa e piatta
Densità: circa 8,2 g/cm³ (vicina al valore teorico)
Punto di fusione: circa 800-850°C (relativamente basso, occorre prestare attenzione alla stabilità termica).
Struttura cristallina: esagonale o triclinica stratificata (a seconda del metodo di preparazione)
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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