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Afnio metallico

Chemical Name:
Afnio metallico
Formula:
Hf
Product No.:
7200
CAS No.:
7440-58-6
EINECS No.:
231-166-4
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
7200ST001 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST002 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST003 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
7200ST004 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST005 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST006 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
7200ST007 Hf 99.9% (Zr< 2%) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
7200ST001
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST002
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST003
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
7200ST004
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST005
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST006
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
7200ST007
Formula
Hf
Purity
99.9% (Zr< 2%)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Obiettivi per sputtering di afnio metallico Panoramica

I bersagli sputtering in afnio sono materiali ad alte prestazioni progettati specificamente per i processi di deposizione di film sottili. Con una purezza del 99,9%, offrono un’eccellente stabilità termica, densità e resistenza, garantendo una deposizione uniforme di film sottili, una forte adesione e livelli di impurità estremamente bassi.

Offriamo target di sputtering in metallo afnio in una varietà di forme e dimensioni, tra cui rotonde, rettangolari e personalizzate, per soddisfare le esigenze specifiche dei nostri clienti. Forniamo anche un’assistenza post-vendita completa; non esitate a contattateci per qualsiasi domanda.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,9%

L’alta densità garantisce una deposizione uniforme del film sottile

Elevata resistenza e stabilità termica per applicazioni di sputtering ad alta potenza

Dimensioni e forme personalizzabili

Incollaggio del target servizi disponibili

Adatto per applicazioni nei semiconduttori, nei rivestimenti ottici, nel settore aerospaziale e in altri settori

Applicazioni del target di sputtering metallico di afnio

Semiconduttori: Utilizzato per la deposizione di film sottili ad alta temperatura e ad alta potenza, come gli elettrodi e gli strati di contatto.

Rivestimenti ottici: Utilizzati per formare film sottili altamente riflettenti e di elevata durezza per applicazioni quali componenti ottici e specchi. Aerospaziale: I target di sputtering Hf offrono un’eccellente resistenza alla corrosione e prestazioni ad alta temperatura in ambienti ad alta temperatura e pressione, il che li rende ampiamente utilizzati nei rivestimenti aerospaziali.
Elettrico ed energetico: Offrono stabilità e affidabilità eccezionali in applicazioni come i film solari e i film funzionali.

Rapporti

Forniamo un Certificato di analisi (COA), scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti con ogni spedizione. Supportiamo anche test di terze parti per migliorare la garanzia di qualità del prodotto.

Formula molecolare: Hf
Peso molecolare: 178,49 g/mol
Aspetto: Metallo bianco-argenteo con superficie liscia
Densità: Circa 13,31 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 2.233 °C
Struttura cristallina: Esagonale a struttura stretta (hcp)

Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

COD 7200ST Categoria Marchio:

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