Titanato di bario (ossido di bario e titanio)

Obiettivi sputtering di titanato di bario Panoramica

I target di sputtering in titanato di bariosono progettati specificamente per la deposizione di film sottili ceramici funzionali. Sono caratterizzati da un’elevata purezza e da un’eccellente densità, che assicurano una deposizione uniforme del film e prestazioni stabili. Con una purezza del 99,9% e livelli di impurità estremamente bassi, sono ampiamente utilizzati nella produzione di dispositivi ferroelettrici, piezoelettrici e capacitivi.

Offriamo target di sputtering in titanato di bario in una varietà di forme e dimensioni, tra cui forme rotonde e rettangolari, che possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze dei clienti. Forniamo anche un’assistenza post-vendita completa; sentitevi liberi di contattarci per qualsiasi domanda.

Caratteristiche del prodotto

Purezza: 99,9%
L’alta densità garantisce una deposizione di film sottile uniforme e di alta qualità
Dimensioni e forme personalizzabili
Incollaggio mirato disponibile
Eccellenti proprietà ferroelettriche e stabilità termica

Applicazioni del target di sputtering in titanato di bario

Film sottili ceramici funzionali: Ampiamente utilizzati nella preparazione di materiali ferroelettrici e piezoelettrici, adatti alla produzione di sensori, condensatori e memorie non volatili.
Dispositivi elettronici: Utilizzati come materiali dielettrici ad alte prestazioni nei transistor a film sottile e nei componenti microelettronici.
Materiali optoelettronici: Utilizzati nella preparazione di film sottili per dispositivi optoelettronici multifunzionali, migliorando le prestazioni e l’affidabilità dei dispositivi.

Rapporti

Forniamo un Certificato di analisi (COA), Scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e altri rapporti pertinenti per ogni lotto di target di sputtering BaTiO₃. Supportiamo anche test di terze parti per garantire che la qualità del prodotto soddisfi i requisiti del cliente.