{"id":49004,"date":"2026-01-13T09:49:52","date_gmt":"2026-01-13T01:49:52","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/tantalate-de-potassium-oxyde-de-potassium-et-de-tantale\/"},"modified":"2026-01-13T09:49:52","modified_gmt":"2026-01-13T01:49:52","slug":"tantalate-de-potassium-oxyde-de-potassium-et-de-tantale","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/fr\/produit\/tantalate-de-potassium-oxyde-de-potassium-et-de-tantale\/","title":{"rendered":"Tantalate de potassium (oxyde de potassium et de tantale)"},"content":{"rendered":"

Cible de pulv\u00e9risation en oxyde de tantale et de potassium Pr\u00e9sentation<\/span><\/h2>\n

Les cibles de pulv\u00e9risation
\nen oxyde de tantale et de potassium<\/a><\/span>
\nsont des cibles c\u00e9ramiques fonctionnelles \u00e0 base d’oxydes \u00e0 structure p\u00e9rovskite, caract\u00e9ris\u00e9es par une composition uniforme et une stabilit\u00e9 structurelle. Ces cibles sont principalement utilis\u00e9es pour la pr\u00e9paration de films minces d’oxyde, appliqu\u00e9s dans les domaines des mat\u00e9riaux \u00e9lectroniques et de la recherche sur les films minces fonctionnels.<\/p>\n

Nous proposons des cibles de pulv\u00e9risation KTaO3 de diff\u00e9rentes tailles, \u00e9paisseurs et m\u00e9thodes de montage, et prenons en charge le traitement personnalis\u00e9. Veuillez nous contacter<\/a><\/span>
\npour trouver la solution qui vous convient.<\/p>\n

Points forts du produit<\/span><\/h2>\n

Cible c\u00e9ramique haute densit\u00e9
\nProcessus de pulv\u00e9risation stable et fiable
\nBonne r\u00e9p\u00e9tabilit\u00e9 de la composition du film mince
\nPrend en charge les processus de pulv\u00e9risation RF
\nLiaison par fond de panier disponible
\nConvient \u00e0 la recherche et \u00e0 la production \u00e0 l’\u00e9chelle pilote<\/p>\n

Applications des cibles de pulv\u00e9risation en oxyde de tantale et de potassium<\/span><\/h2>\n

Pr\u00e9paration de films minces fonctionnels \u00e0 base d’oxyde : couramment utilis\u00e9 pour pr\u00e9parer des films minces d’oxyde \u00e0 structure p\u00e9rovskite, ce qui permet d’obtenir des couches fonctionnelles avec une composition stable et une \u00e9paisseur contr\u00f4lable.
\nRecherche sur les films minces \u00e9lectroniques et di\u00e9lectriques : dans la recherche sur les mat\u00e9riaux \u00e9lectroniques, cette cible peut \u00eatre utilis\u00e9e pour le d\u00e9p\u00f4t de films minces di\u00e9lectriques ou fonctionnels afin d’\u00e9valuer les performances des dispositifs.
\nD\u00e9veloppement de films minces multicouches et de structures h\u00e9t\u00e9rog\u00e8nes : convient \u00e0 la pr\u00e9paration de films minces multicouches ou \u00e0 h\u00e9t\u00e9rojonction, fournissant une r\u00e9f\u00e9rence pr\u00e9cieuse pour le contr\u00f4le de la qualit\u00e9 des interfaces.
\nOptimisation des param\u00e8tres de processus et des conditions de d\u00e9p\u00f4t : cette cible est couramment utilis\u00e9e dans la phase de d\u00e9veloppement du processus de pulv\u00e9risation pour \u00e9tudier les effets de la puissance, de l’atmosph\u00e8re et de la temp\u00e9rature sur les performances des films minces.<\/p>\n

FAQ<\/a><\/span><\/h2>\n

Q1 : La cible de pulv\u00e9risation en oxyde de tantale et de potassium est-elle adapt\u00e9e \u00e0 la pulv\u00e9risation DC ou RF ?
\nA1 : En tant que cible c\u00e9ramique, elle est g\u00e9n\u00e9ralement plus adapt\u00e9e aux processus de pulv\u00e9risation RF.<\/p>\n

Q2 : La cible est-elle susceptible de se fissurer pendant la pulv\u00e9risation ?
\nA2 : Dans des conditions de processus appropri\u00e9es, la structure de la cible est stable et la fissuration ne pose pas de probl\u00e8me.<\/p>\n

Q3 : Pouvez-vous fournir des cibles coll\u00e9es \u00e0 un fond de panier ?
\nR3 : Oui, nous proposons des services de collage avec du cuivre ou d’autres fonds de panier couramment utilis\u00e9s.<\/p>\n

Q4 : La cible n\u00e9cessite-t-elle un traitement sp\u00e9cial avant utilisation ?
\nR4 : En g\u00e9n\u00e9ral, aucun traitement sp\u00e9cial n’est n\u00e9cessaire ; les proc\u00e9dures d’utilisation standard des cibles de pulv\u00e9risation sont suffisantes.<\/p>\n

Rapport<\/span><\/h2>\n

Chaque lot est fourni avec :
\nCertificat d’analyse (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Fiche technique (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Fiche de donn\u00e9es de s\u00e9curit\u00e9 (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapport d’inspection des dimensions
\nRapports d’essais effectu\u00e9s par des tiers disponibles sur demande<\/p>\n

Pourquoi nous choisir ?<\/span><\/h2>\n

Nous avons une grande exp\u00e9rience dans le domaine des cibles de pulv\u00e9risation en c\u00e9ramique oxyd\u00e9e, ce qui nous permet d’offrir un soutien fiable en mati\u00e8re de coh\u00e9rence des mat\u00e9riaux, de pr\u00e9cision de traitement et d’ad\u00e9quation des applications, aidant ainsi nos clients \u00e0 faire progresser de mani\u00e8re constante la R&D et la validation des processus dans le domaine des couches minces.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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