{"id":43986,"date":"2026-01-23T13:24:20","date_gmt":"2026-01-23T05:24:20","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/alliage-de-titane-daluminium-et-de-silicium\/"},"modified":"2026-01-23T13:24:20","modified_gmt":"2026-01-23T05:24:20","slug":"alliage-de-titane-daluminium-et-de-silicium","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/fr\/produit\/alliage-de-titane-daluminium-et-de-silicium\/","title":{"rendered":"Alliage de titane, d’aluminium et de silicium"},"content":{"rendered":"

Cible de pulv\u00e9risation en titane-aluminium-silicium Aolly Pr\u00e9sentation<\/span><\/h2>\n

La cible de pulv\u00e9risation en alliage
\nde titane-aluminium-silicium<\/a><\/span>
\nest un mat\u00e9riau en alliage de titane-aluminium-silicium stable \u00e0 haute temp\u00e9rature, qui poss\u00e8de \u00e0 la fois une excellente conductivit\u00e9 et une r\u00e9sistance aux temp\u00e9ratures \u00e9lev\u00e9es. Elle est largement utilis\u00e9e dans le d\u00e9veloppement de films minces fonctionnels, de rev\u00eatements c\u00e9ramiques conducteurs, de dispositifs \u00e9lectroniques \u00e0 haute temp\u00e9rature et de mat\u00e9riaux scientifiques en film mince.<\/p>\n

Nous proposons des cibles de pulv\u00e9risation TiAlSi \u00e0 composition uniforme et structure dense, adapt\u00e9es aux syst\u00e8mes de pulv\u00e9risation magn\u00e9tron CC ou RF. Veuillez nous contacter<\/a><\/span>
\npour obtenir les sp\u00e9cifications d\u00e9taill\u00e9es et les informations techniques.<\/p>\n

Points forts du produit<\/span><\/h2>\n

Stable \u00e0 haute temp\u00e9rature
\nExcellente conductivit\u00e9 et stabilit\u00e9 thermique
\nStabilit\u00e9 de la composition et bonne r\u00e9p\u00e9tabilit\u00e9 du film pendant la pulv\u00e9risation
\nConvient au d\u00e9p\u00f4t \u00e0 haute temp\u00e9rature, sous vide et en atmosph\u00e8re inerte
\nGrande coh\u00e9rence des lots
\nTailles et formats personnalisables
\nConvient \u00e0 la pr\u00e9paration de films minces \u00e0 des fins scientifiques et industrielles<\/p>\n

Applications de la cible de pulv\u00e9risation en titane-aluminium-silicium<\/span><\/h2>\n

D\u00e9p\u00f4t de films minces fonctionnels :<\/strong>
\npeut \u00eatre utilis\u00e9 pour pr\u00e9parer des films minces fonctionnels hautement conducteurs, r\u00e9sistants aux temp\u00e9ratures \u00e9lev\u00e9es et \u00e0 la corrosion pour les appareils \u00e9lectroniques et les rev\u00eatements conducteurs.
\nC\u00e9ramiques conductrices et films minces composites :<\/strong>
\ngr\u00e2ce \u00e0 sa conductivit\u00e9 et \u00e0 sa stabilit\u00e9 \u00e0 haute temp\u00e9rature, il peut \u00eatre utilis\u00e9 pour pr\u00e9parer des films minces composites m\u00e9tal-c\u00e9ramique et des films c\u00e9ramiques conducteurs haute performance.
\nRecherche et d\u00e9veloppement de mat\u00e9riaux :<\/strong>
\nlargement utilis\u00e9 dans la recherche sur les films minces en alliage titane-aluminium-silicium, le d\u00e9veloppement de nouveaux mat\u00e9riaux haute temp\u00e9rature et les tests de performance des films.
\nRev\u00eatements r\u00e9sistants \u00e0 la corrosion et aux temp\u00e9ratures \u00e9lev\u00e9es :<\/strong>
\nles films minces TiAlSi pr\u00e9sentent des performances stables dans des environnements corrosifs et \u00e0 haute temp\u00e9rature, ce qui les rend adapt\u00e9s \u00e0 la recherche sur les rev\u00eatements r\u00e9sistants aux temp\u00e9ratures \u00e9lev\u00e9es et protecteurs.<\/p>\n

FAQ<\/a><\/span><\/h2>\n

Q1 : Quelle m\u00e9thode de pulv\u00e9risation convient aux cibles TiAlSi ?
\nA1 : Convient \u00e0 la pulv\u00e9risation magn\u00e9tron \u00e0 courant continu et \u00e0 la pulv\u00e9risation magn\u00e9tron \u00e0 radiofr\u00e9quence. Il pr\u00e9sente une excellente conductivit\u00e9 et convient \u00e0 divers proc\u00e9d\u00e9s PVD.<\/p>\n

Q2 : La composition des cibles TiAlSi est-elle stable pendant la pulv\u00e9risation ?
\nR2 : Dans des conditions de processus appropri\u00e9es, la cible conserve une composition chimique stable, ce qui se traduit par une bonne r\u00e9p\u00e9tabilit\u00e9 et une bonne coh\u00e9rence du film.<\/p>\n

Q3 : Les cibles TiAlSi conviennent-elles au d\u00e9p\u00f4t \u00e0 haute temp\u00e9rature ?
\nR3 : Oui, la cible poss\u00e8de une excellente stabilit\u00e9 thermique et une excellente r\u00e9sistance aux chocs thermiques, ce qui la rend adapt\u00e9e au d\u00e9p\u00f4t de films minces \u00e0 haute temp\u00e9rature.<\/p>\n

Q4 : Dans quels domaines les films minces TiAlSi sont-ils principalement utilis\u00e9s ?
\nA4 : Ils sont principalement utilis\u00e9s pour les rev\u00eatements conducteurs, les films minces fonctionnels, les dispositifs \u00e9lectroniques \u00e0 haute temp\u00e9rature et le d\u00e9veloppement de mat\u00e9riaux de recherche pour films minces.<\/p>\n

Rapport<\/span><\/h2>\n

Chaque lot est fourni avec :
\nCertificat d’analyse (COA)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Fiche technique (TDS)<\/u><\/a><\/span><\/p>\n

Fiche de donn\u00e9es de s\u00e9curit\u00e9 (MSDS)<\/u><\/a><\/span>
\nRapport d’inspection des dimensions
\nRapports d’essais effectu\u00e9s par des tiers disponibles sur demande<\/p>\n

Pourquoi nous choisir ?<\/span><\/h2>\n

Nous sommes sp\u00e9cialis\u00e9s dans la recherche et la fourniture de cibles de pulv\u00e9risation TiAlSi haute performance, garantissant que nos cibles de pulv\u00e9risation TiAlSi r\u00e9pondent aux normes de recherche et industrielles en termes de structure des mat\u00e9riaux, de densification et de compatibilit\u00e9 de pulv\u00e9risation, offrant ainsi une assurance fiable pour la pr\u00e9paration de films minces.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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