{"id":16389,"date":"2025-10-21T14:25:49","date_gmt":"2025-10-21T06:25:49","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/oxyde-de-hafnium-et-de-zirconium\/"},"modified":"2025-10-21T14:25:49","modified_gmt":"2025-10-21T06:25:49","slug":"oxyde-de-hafnium-et-de-zirconium","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/fr\/produit\/oxyde-de-hafnium-et-de-zirconium\/","title":{"rendered":"Oxyde de hafnium et de zirconium"},"content":{"rendered":"

Cibles de pulv\u00e9risation d’oxyde de hafnium et de zirconium Vue d’ensemble<\/span><\/h2>\n

Les cibles de pulv\u00e9risation d’oxyde de hafnium et de zirconium<\/a> <\/span>sont des mat\u00e9riaux c\u00e9ramiques composites avanc\u00e9s con\u00e7us pour les processus de d\u00e9p\u00f4t de couches minces \u00e0 haute performance. Combinant les propri\u00e9t\u00e9s sup\u00e9rieures de l’oxyde d’hafnium et de l’oxyde de zirconium, ces cibles offrent une grande puret\u00e9, une densit\u00e9 \u00e9lev\u00e9e et une excellente stabilit\u00e9 thermique, garantissant des films d\u00e9pos\u00e9s uniformes et denses avec une forte adh\u00e9rence et un minimum d’impuret\u00e9s.<\/p>\n

Nous proposons des cibles de pulv\u00e9risation d’oxyde de hafnium et de zirconium dans une vari\u00e9t\u00e9 de rapports de composition et de tailles, et nous pouvons personnaliser les sp\u00e9cifications pour r\u00e9pondre aux besoins des clients. Nous fournissons \u00e9galement un support technique<\/a> <\/span>et un service apr\u00e8s-vente<\/a> <\/span>afin de garantir un processus de production efficace et sans heurts.<\/p>\n

Points forts du produit<\/span><\/h2>\n

Puret\u00e9 : 99,9
\nLe frittage \u00e0 haute densit\u00e9 garantit un d\u00e9p\u00f4t uniforme de couches minces
\nExcellente stabilit\u00e9 thermique et r\u00e9sistance m\u00e9canique
\nRapports de composition, tailles et formes personnalisables
\nConvient aux semi-conducteurs avanc\u00e9s, aux couches di\u00e9lectriques \u00e0 haute temp\u00e9rature et aux rev\u00eatements optiques<\/p>\n

Applications des cibles de pulv\u00e9risation de l’oxyde de zirconium et d’hafnium<\/span><\/h2>\n

Semi-conducteurs<\/a> <\/span>Industrie des semi-conducteurs : Utilis\u00e9 comme mat\u00e9riau di\u00e9lectrique de grille \u00e0 haut k pour am\u00e9liorer les performances et la stabilit\u00e9 des transistors.
\nRev\u00eatements optiques : Utilis\u00e9s pour la production de films optiques antireflets et \u00e0 indice de r\u00e9fraction \u00e9lev\u00e9 pour des applications telles que les lentilles, les \u00e9crans et les lasers.
\nMat\u00e9riaux c\u00e9ramiques : Convient aux rev\u00eatements c\u00e9ramiques r\u00e9sistants \u00e0 l’usure et aux temp\u00e9ratures \u00e9lev\u00e9es, afin de prolonger la dur\u00e9e de vie des appareils. Dispositifs MEMS : Le d\u00e9p\u00f4t de couches minces fonctionnelles pour les syst\u00e8mes micro\u00e9lectrom\u00e9caniques (MEMS) garantit d’excellentes propri\u00e9t\u00e9s \u00e9lectriques et m\u00e9caniques.<\/p>\n

Rapports<\/span><\/h2>\n

Nous fournissons un Certificat d’analyse (COA)<\/a><\/span>une fiche de donn\u00e9es de s\u00e9curit\u00e9 (FDS) et un rapport d’essai de performance d\u00e9taill\u00e9s pour chaque lot de produits. Nous soutenons \u00e9galement des services d’essai tiers faisant autorit\u00e9 afin de garantir que la qualit\u00e9 des produits est conforme aux normes industrielles et aux exigences des clients.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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