Les cibles de pulvérisation
en titane (dopées au Nb)
introduisent une petite quantité de niobium dans les cibles à base de titane afin d’améliorer la conductivité, la résistance à la corrosion et la stabilité thermique des films minces. Ces cibles conviennent aux procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour la préparation de films minces fonctionnels, de revêtements conducteurs et de matériaux de modification de surface pour les appareils électroniques.
Nous proposons des cibles de pulvérisation TiNb de haute pureté et de composition uniforme, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron à courant continu ou à radiofréquence. Différentes tailles, formes et méthodes de liaison
peuvent être personnalisées pour répondre aux besoins de la recherche et de la production industrielle.
Le dopage au niobium améliore la conductivité et la résistance à la corrosion du film.
La densité et l’uniformité du matériau cible garantissent un dépôt stable du film.
Excellente adhérence du film et excellentes propriétés interfaciales.
Applicable à divers substrats et conditions de processus PVD.
Prend en charge la pulvérisation continue et les applications industrielles
Films minces fonctionnels conducteurs :
largement utilisés dans les films conducteurs transparents et les revêtements fonctionnels pour les appareils électroniques.
Revêtements résistants à la corrosion et à la chaleur :
le niobium améliore la résistance à la corrosion et la stabilité thermique des films minces, ce qui convient à la préparation de revêtements haute performance.
Recherche et développement de procédés :
utilisé dans les universités et les instituts de recherche pour étudier les paramètres de procédé des films minces conducteurs et des films minces composites.
Q1 : À quels procédés de pulvérisation la cible de pulvérisation dopée au titane Nb est-elle adaptée ?
A1 : Convient aux procédés de pulvérisation magnétron à courant continu, de pulvérisation magnétron RF et de dépôt de films minces composites multicouches.
Q2 : Quel est le rôle principal du dopage au niobium ?
R2 : Le niobium améliore la conductivité, la résistance à la corrosion et la stabilité thermique du film mince, rendant ses propriétés plus adaptées aux appareils électroniques et aux applications de revêtements fonctionnels.
Q3 : Comment choisir les spécifications appropriées pour la cible Ti-Nb ?
A3 : Choisissez la taille et la forme de la cible en fonction du modèle de l’équipement de pulvérisation, de la taille du substrat et des exigences de dépôt. Des services de personnalisation sont disponibles.
Q4 : Quelles sont les précautions à prendre pour le stockage et le transport de la cible de pulvérisation dopée au titane Nb ?
A4 : Conservez-la dans un endroit sec, évitez l’humidité et les dommages mécaniques, et prévenez la contamination et la rupture de la surface.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans les cibles de pulvérisation à base de titane et d’alliages dopés, fournissant des cibles de pulvérisation Ti-Nb de haute pureté et de composition uniforme, ainsi que des solutions personnalisées pour garantir la qualité des films minces et la stabilité des processus pour les applications industrielles et de recherche.
Formule moléculaire : TiNb
Aspect : Matériau cible gris argenté
Densité : Environ 6,5 g/cm³ : Environ 6,5 g/cm³
Point de fusion : Environ 1700 °C
Structure cristalline : Cubique centré (BCC)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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