Titane Carbure d’aluminium

Cibles de pulvérisation en carbure de titane et d’aluminium Présentation

Les cibles de pulvérisation
en carbure de titane et d’aluminium
sont des cibles typiques en phase MAX, possédant à la fois des propriétés métalliques et céramiques, adaptées à la préparation de films minces fonctionnels dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ces cibles sont largement utilisées dans les revêtements fonctionnels, les films minces céramiques conducteurs et la recherche sur les matériaux avancés.

Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation Ti3AlC2 structurellement stables et d’une densité fiable pour la recherche et le dépôt de films minces fonctionnels. N’hésitez pas à nous contacter.

Points forts du produit

Cible en matériau MAX phase
(M₃AX₂) typique
Propriétés métalliques et céramiques doubles
Bonne conductivité
Processus de pulvérisation stable
Bonne cohérence de la composition du film
Convient à divers systèmes PVD
Stabilité fiable des lots

Applications des cibles de pulvérisation en carbure de titane et d’aluminium

Films minces fonctionnels et matériaux de revêtement :
peuvent être utilisés pour déposer des films minces fonctionnels présentant une conductivité et une stabilité structurelle, adaptés à la recherche avancée sur les matériaux de revêtement.
Films minces céramiques conducteurs :
leur conductivité métallique en fait des candidats potentiels pour la préparation de céramiques conductrices et de matériaux électroniques en film mince associés.
Recherche sur la phase MAX et les matériaux stratifiés :
cette cible est largement utilisée dans la recherche sur les films minces en phase MAX, les structures stratifiées et l’évolution de leurs performances.
Ingénierie des surfaces et revêtements fonctionnels :
convient à la préparation de revêtements composites résistants aux températures élevées, aux chocs thermiques ou fonctionnels pour la recherche sur la modification des surfaces des matériaux.

FAQ

Q1 : À quel type de films minces la cible de pulvérisation en carbure de titane et d’aluminium est-elle principalement utilisée ?
R1 : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de films minces liés à la phase MAX ou de films minces fonctionnels du système Ti-Al-C pour la recherche sur la conductivité et la fonctionnalité structurelle.

Q2 : La cible en carbure de titane et d’aluminium convient-elle au pulvérisation magnétron ?
R2 : Oui, le Ti₃AlC₂ possède une certaine conductivité et convient généralement aux processus PVD tels que la pulvérisation magnétron.

Q3 : La composition du film est-elle stable lorsqu’on utilise une cible de pulvérisation Ti₃AlC₂ ?
A3 : Avec des paramètres de processus et un contrôle de l’atmosphère appropriés, on peut obtenir des films avec une bonne répétabilité de composition.

Q4 : Quelle est la valeur scientifique des films minces Ti₃AlC₂ ?
A4 : Leur valeur scientifique se reflète principalement dans les domaines des films minces céramiques conducteurs, des matériaux à structure stratifiée et des nouveaux revêtements fonctionnels.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions

Rapports d’essais par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la préparation stable et le contrôle qualité des cibles de pulvérisation en phase MAX et en céramique fonctionnelle, fournissant une base matérielle fiable pour le dépôt de films minces de Ti₃AlC₂.