Titanate de strontium (oxyde de strontium et de titane)

Cibles de pulvérisation en oxyde de strontium et de titane Présentation

Les cibles de pulvérisation
en oxyde de strontium et de titane
sont des cibles céramiques de haute pureté qui présentent une excellente stabilité thermique, une inertie chimique et des propriétés électriques uniformes. Elles sont largement utilisées dans le dépôt de films minces électroniques, les dispositifs à oxydes fonctionnels et la fabrication de revêtements céramiques haute performance.

Nous proposons des cibles de pulvérisation SrTiO3 dans différentes spécifications, tailles et degrés de pureté afin de répondre aux besoins des équipements de pulvérisation DC, RF et magnétron. Veuillez nous contacter
pour obtenir des échantillons ou des services personnalisés.

Points forts du produit

Haute pureté
Haute densité, faible porosité
Bonne correspondance du coefficient de dilatation thermique
Propriétés électriques et optiques uniformes
Convient à la pulvérisation DC/RF/magnétron
Haute stabilité, longue durée de vie
Prend en charge le collage des cibles
Tailles et formes personnalisables
Bonne cohérence des lots

Applications des cibles de pulvérisation en oxyde de strontium et de titane

Dépôt de couches minces électroniques : utilisé pour préparer des couches minces de SrTiO3 de haute qualité, améliorant les performances et la stabilité des dispositifs.
Dispositifs à oxydes fonctionnels : peut être utilisé pour la fabrication de couches minces de condensateurs à oxydes multicouches, de résistances et de matériaux pour capteurs.
Revêtements céramiques : en tant que matériau de revêtement céramique, il améliore la résistance mécanique et la stabilité thermique.
Développement de matériaux scientifiques : fournit une base de dépôt uniforme et fiable dans la recherche et le développement de matériaux ferroélectriques, piézoélectriques et optoélectroniques.

FAQ

Q1 : Les cibles de pulvérisation SrTiO3 peuvent-elles être utilisées directement dans tous les types d’équipements de pulvérisation ?
A1 : Cette cible convient à la pulvérisation CC, RF et magnétron, mais veuillez sélectionner les spécifications appropriées en fonction de la puissance de l’équipement et des conditions de vide.

Q2 : La densité et la porosité de la cible ont-elles une incidence sur l’effet de dépôt ?
A2 : Oui, une densité élevée et une faible porosité de la cible garantissent un dépôt uniforme et un taux de pulvérisation stable, améliorant ainsi la qualité du film.

Q3 : Quelles précautions faut-il prendre lors du transport et du stockage de la cible ?
A3 : Elle doit être stockée dans un environnement sec, à l’abri de la lumière et des chocs, afin d’éviter toute humidité et tout dommage mécanique.

Q4 : Comment garantir des performances constantes entre les différents lots de cibles ?
A4 : Chaque lot de cibles de pulvérisation est soumis à des tests rigoureux de composition chimique et de densité afin de garantir des dimensions, une densité et des performances de pulvérisation constantes.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports de tests effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous disposons de processus de production de cibles de pulvérisation SrTiO3 éprouvés et d’un système de contrôle qualité rigoureux, qui nous permettent de fournir des cibles stables, de haute pureté et de haute densité, ainsi que des services techniques professionnels. Cela garantit une application fiable de nos matériaux dans la préparation de films minces et le développement de dispositifs fonctionnels, ce qui fait de nous le partenaire privilégié pour la recherche et les applications industrielles.