La poudre
de sulfure de silicium
est une poudre de sulfure de silicium de haute pureté qui présente une excellente stabilité chimique et thermique. Elle est largement utilisée dans les films minces fonctionnels, les matériaux pour dispositifs électroniques et la recherche chimique.
Nous pouvons fournir de la poudre de sulfure de silicium compatible avec les processus et apporter notre soutien dans le cadre de discussions techniques concernant la taille des particules, les paramètres de processus et les directions d’application. Contactez-nous
dès maintenant !
Haute stabilité chimique
Excellente stabilité thermique
Poudre uniforme avec une bonne fluidité
Convient à diverses techniques de dépôt et de traitement
Prend en charge les applications de couches minces, de revêtements et de matériaux pour dispositifs
Préparation de couches minces fonctionnelles :
la poudre SiS peut être utilisée pour préparer des couches minces fonctionnelles électroniques et des revêtements protecteurs, améliorant ainsi les performances des matériaux et l’uniformité du dépôt.
Matériaux pour dispositifs électroniques :
utilisée pour le dépôt de dispositifs semi-conducteurs et de couches fonctionnelles, améliorant la stabilité et la cohérence des performances des dispositifs.
Recherche chimique et développement de nouveaux matériaux :
peut servir de matière première de base pour la recherche et le développement de matériaux à base de sulfure de silicium et la recherche sur les réactions chimiques.
Recherche scientifique et validation des processus :
prend en charge la recherche et le développement de nouveaux matériaux et de nouveaux processus de couches minces, ainsi que l’optimisation et la validation des paramètres.
Q1 : À quelles applications la poudre de sulfure de silicium est-elle adaptée ?
A1 : Elle est principalement utilisée dans les couches minces fonctionnelles, les matériaux pour dispositifs électroniques, la recherche chimique et le développement de nouveaux matériaux.
Q2 : La poudre SiS est-elle stable à haute température ?
R2 : La poudre présente une bonne stabilité thermique dans des conditions appropriées, mais les environnements humides doivent être évités.
Q3 : La morphologie de la poudre affecte-t-elle les performances du film ?
R3 : Une morphologie uniforme et stable de la poudre contribue à améliorer le dépôt du film et la cohérence du traitement.
Q4 : La poudre SiS peut-elle être utilisée directement pour le dépôt de films minces ?
R4 : Oui, elle convient comme matière première pour les films minces fonctionnels et les revêtements.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la fourniture de poudres de sulfure de silicium haute performance, offrant des poudres de sulfure de silicium stables et traçables afin d’aider nos clients à atteindre une cohérence et une fiabilité élevées dans leurs applications de R&D et de traitement.
Formule moléculaire : SiS2
Poids moléculaire : 78.16 g/mol
Aspect : Poudre jaune à jaune pâle
Densité : 2.61 g/cm³
Point de fusion : 1090 °C
Point d’ébullition : 1477 °C (sublimation)
Structure cristalline : Tétragonal (structure en chaîne)
Mention d’avertissement :
Danger
Mentions de danger :
H261 : Au contact de l’eau, dégage des gaz inflammables.
H300 : Mortel en cas d’ingestion.
H315 : Provoque une irritation cutanée.
H319 : Provoque une sévère irritation des yeux.
H335 : Peut provoquer une irritation des voies respiratoires.
Emballage intérieur : sacs en plastique à double couche scellés ou sacs en feuille d’aluminium pour protéger contre l’humidité et les fuites.
Emballage extérieur : fût en fer ou en fibre, selon le poids, avec couvercle scellé renforcé.
Emballage pour matières dangereuses : emballage certifié UN conforme à la réglementation relative au transport des matières dangereuses.
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