Les cibles de pulvérisation
en siliciure de vanadium
sont des cibles fonctionnelles qui combinent une excellente conductivité et une stabilité à haute température, adaptées à divers procédés de dépôt physique en phase vapeur. Ces cibles peuvent être utilisées pour préparer des films minces en siliciure avec une structure uniforme et des performances stables.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en siliciure de vanadium de différentes tailles, formes et densités contrôlées. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions personnalisées et une assistance technique.
Grande stabilité de pulvérisation
Cible dense et uniforme
Bonne conductivité du film
Fiable pour les applications à haute température
Structure et taille personnalisables
Cohérence stable des lots
Préparation de films minces fonctionnels conducteurs :
convient à la préparation de films minces fonctionnels conducteurs, qui peuvent être utilisés pour le dépôt de dispositifs électroniques et de couches fonctionnelles associées.
Revêtements de matériaux électroniques à haute température :
grâce à son excellente stabilité thermique, des revêtements fonctionnels stables peuvent être préparés à haute température pour répondre aux exigences des applications électroniques à haute température.
Modification de la surface des dispositifs :
les films minces de siliciure de vanadium formés par pulvérisation peuvent améliorer les propriétés électriques et la stabilité opérationnelle des surfaces des dispositifs.
Recherche scientifique et recherche sur les processus de couche mince :
cette cible est couramment utilisée dans la recherche sur les couches minces de siliciure et les processus de dépôt, et convient aux applications en laboratoire et à l’échelle pilote.
Q1 : Quelles méthodes de pulvérisation conviennent aux cibles de pulvérisation de siliciure de vanadium ?
A1 : Convient aux processus de pulvérisation CC ou RF, offrant une bonne uniformité et stabilité du film.
Q2 : Comment la densité de la cible affecte-t-elle les performances du film ?
R2 : Une densité plus élevée contribue à améliorer l’adhérence du film et la cohérence électrique.
Q3 : Cette cible convient-elle à la pulvérisation continue ?
R3 : Dans des conditions de refroidissement et de traitement appropriées, elle peut répondre aux exigences de la pulvérisation continue à long terme.
Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors de l’utilisation ?
A4 : Il est recommandé de garder la surface de la cible propre et sèche, et de contrôler les paramètres de pulvérisation de manière appropriée en fonction des conditions de l’équipement.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une grande expérience dans la préparation de cibles de pulvérisation en siliciure et pouvons fournir de manière fiable des cibles de pulvérisation en siliciure de vanadium avec des performances constantes. Nous fournissons également une assistance ciblée en fonction des exigences de processus de nos clients afin de les aider à obtenir un dépôt de film mince de haute qualité.
Formule moléculaire : VSi₂
Poids moléculaire : 86,95 g/mol
Aspect : Éclat métallique gris argenté, texture métallique.
Densité : 4,76 g/cm³ : 4,76 g/cm³
Point de fusion : 1890°C
Structure cristalline : Hexagonale
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
