ULPMAT

Siliciure de tantale

Chemical Name:
Siliciure de tantale
Formula:
TaSi2
Product No.:
731400
CAS No.:
12039-79-1
EINECS No.:
234-902-2
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
731400ST001 TaSi2 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST002 TaSi2 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST003 TaSi2 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST004 TaSi2 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST005 TaSi2 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST006 TaSi2 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST007 TaSi2 99.9% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST008 TaSi2 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST009 TaSi2 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
731400ST001
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST002
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST003
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST004
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST005
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST006
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST007
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST008
Formula
TaSi2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST009
Formula
TaSi2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Cibles de pulvérisation du siliciure de tantale Vue d’ensemble

Les cibles de pulvérisation du siliciure de tantale sont des matériaux de haute performance conçus pour les processus de dépôt de couches minces. D’une pureté allant jusqu’à 99,99 %, elles présentent une excellente stabilité thermique et chimique, garantissant une formation uniforme du film, une bonne adhérence et une faible teneur en impuretés.

Nous proposons des cibles de pulvérisation de siliciure de tantale dans une variété de spécifications et de tailles, y compris rondes et rectangulaires, et nous pouvons les personnaliser en fonction de vos besoins spécifiques. Nous fournissons également un service après-vente complet – si vous avez des questions pendant l’utilisation, n’hésitez pas à n’hésitez pas à nous contacter.

Points forts du produit

Pureté : 99,99 %
Excellente stabilité thermique et chimique
Densité élevée pour assurer un dépôt uniforme du film
Taille et forme personnalisables
Le collage de cibles est disponible
Applicable aux semi-conducteurs, à l’optoélectronique et aux revêtements à haute température

Applications de la cible de pulvérisation du siliciure de tantale

Semi-conducteurs : Utilisées pour fabriquer des couches minces de dispositifs électroniques à haute performance afin d’améliorer la stabilité et les performances des dispositifs.
Dispositifs optoélectroniques : Convient à la fabrication de couches optiques et d’éléments de capteurs.
Revêtements à haute température : Excellentes performances dans les revêtements résistants à l’usure et aux températures élevées.
Couches minces fonctionnelles : Appliquées aux couches de protection résistantes à la corrosion et à l’usure.

Rapports

Chaque lot de produits est accompagné d’un Un certificat d’analyse (COA) Fiche de données de sécurité (FDS) et les rapports de qualité correspondants. Nous prenons également en charge les tests effectués par des tiers afin de garantir que la qualité des produits répond aux normes des clients.

Formule moléculaire : TaSi₂
Poids moléculaire : environ 182,84 g/mol
Aspect : cible dense gris foncé avec une surface lisse
Densité : environ 9,4 g/cm³ (proche de la densité théorique)
Point de fusion : environ 2 850 °C
Structure cristalline : système hexagonal

Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.

Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

UGS 731400ST Catégorie Marque :

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